金相磨抛机:抛好光后的试样,若直接放在显微镜下观察,只能看到一片亮光,能观察某些非金属夹杂物、灰口铸铁中的石墨、粉末冶金制品中的孔隙等,无法辨别出各种组成物及其形态特征。为了把磨面的变形层除去,同时还要把各个不同的组成地区分开来,得到有关显微组织的信息,就要进行显微组织的显示工作。按金相组织显示方法的本质可以分为化学、物理二类。化学方法主要是浸蚀方法,包括化学浸蚀,电化学浸蚀及氧化法,是利用化学试剂的溶液借化学或电化学作用显示金属的组织。本课程实验使用的全部试样均采用化学浸蚀方法制作。金相试样表面的化学浸蚀可以是化学溶解作用,也可以是电化学溶解作用。这取决于试样材料的组成相的性质及它们的相对量。金相磨抛机每一道磨光工序须除去前一道工序造成的变形层。嘉兴全自动双盘金相磨抛机品牌好
金相磨抛机抛光案例: 打磨:240# 600# 1200# ,转速:300转左右,转盘方向:顺时针,压力:30N即可,每道砂纸时间:1分钟左右(划痕均匀,没有多面出现)打磨:4000# 沿着一个方面手磨,抛光:转速:300转左右,转盘方向:顺时针 ,压力:30N即可。 抛光:真丝绸布,纹路均匀,进口硬质背基金刚石喷雾抛光剂/金刚石悬浮抛光液:5微米 420毫升 时间:5-10分钟(喷2-3次溶液)防氧化抛光润滑液防止过于干燥过热,抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注:抛光前,抛光布保持干净,完全湿润;1、精抛短绒,进口硬质背基,2、进口工艺氧化铝抛光液:0.05微米, 3、防氧化抛光液时间:5-10分钟(喷2-3次溶液)会出现模糊氧化层,需要进行氧化抛光,同时去除表面细小划痕防止过于干燥过热,抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注:抛光前,抛光布保持干净,完全湿润 嘉兴全自动双盘金相磨抛机品牌好金相磨抛机表面光滑美观、免喷漆,表面划痕修复简单。
金相磨抛机:一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉,接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱,其自由能也较高,所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹,见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体,各晶粒的取向不会一致,因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的,所以每一颗晶粒溶解的结果不一样,都把按原子排列密的面露在表面,也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下,各晶粒的反射光方向不一致,就显示出亮度不一致的晶粒。
金相磨抛机:抛光目的是消除细磨留下的磨痕,获得光亮无痕的镜面。方法有机械抛光、电解抛光、化学抛光和复合抛光等,常用的是机械抛光。(1)机械抛光是在抛光机上进行抛光,靠极细的抛光粉和磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕的,分为粗抛光和细抛光两种1)粗抛光粗抛光一般是在抛光盘上铺以细帆布,抛光液通常为Cr2O3、Al2O3等粒度为1-5μ的粉末制成水的悬浮液,一般一升水加入5-10克,手握样品在常用的抛光机上进行。边抛光边加抛光液,一般的钢铁材料粗抛光可获得光亮的表面。2)细抛光是在抛光盘上铺以丝绒,丝绸等,用更细的Al2O3、Fe2O3粉制成水的悬浮液,与粗抛光的方法相同。金相磨抛机(全自动)采用8寸触摸屏操作控制,直观的触摸屏界面,自动调压力。
金相磨抛机:试样磨光的目的是要能得到一个平整的磨面,这种磨面上还留有极细的磨痕,这将在以后的抛光过程中消除。磨光工序又可分为粗磨和细磨两步。粗磨:手工对于软材料可用锉刀锉平,一般材料都用砂轮机磨平。操作时应利用砂轮侧面,以保证试样磨平。要注意接触压力不宜过大同时要不断用水冷却,防止温度升高造成内部的组织发生变化。倒角时防止细磨时划破砂纸。但对需要观察脱碳、渗碳等表面层情况的试样不能倒角,有时还要采用电镀敷盖来防止这些试样边缘倒角。粗磨完成后,凡不作表面层金相检验的棱边都应倒成小圆弧,以免在以后的工序过程中会将砂纸或抛光物拉裂。甚至还可能会被抛光物钩住而被抛飞出外,造成事故。金相磨抛机(全自动)采用LED灯照明,一次可制样1-6个。嘉兴全自动双盘金相磨抛机品牌好
金相磨抛机使金属组织中的夹物、石墨等不容易脱落。嘉兴全自动双盘金相磨抛机品牌好
金相制样制备方法:金相显微式样的制备包括取样、镶嵌等工序。取样式样的选取应根据研究的目的,取其具有代表性的部位。待确定好部位,就可以把式样截下,式样的尺寸通常采用直径12~15mm,高12~15mm的圆柱体或边长12~15mm的方形式样。取样方法可用手锯、锯床切割或锤击等方法。镶嵌如式样尺寸太小,直接用手来磨制困难时,可把式样镶嵌在低熔点合金或塑料中,以便于式样的磨制和抛光。磨制切好或镶好的式样在砂轮机上磨平,尖角要倒圆。一直磨到W10砂纸方可进行粗抛光和细抛光。嘉兴全自动双盘金相磨抛机品牌好