金相磨抛机制样通常包括取样、镶嵌、磨制、抛光、浸蚀等工作过程,需要一定的技术技能来支撑,才能制作出满足显微观察并准确反映出零件真实形态的合格的金相试样。从取样来说,要从检验的关注点出发,选择零件的重点部位采样,采样中应使用合适的方法,特别注意控制温度、样品大小等因素,保证样品的原有状态和为后续的处理提供方便;对很小的样品和形状很不规则的样品要进行镶嵌,以提高制备质量和样品保持在正确观察方向上;磨光是利用不同粒度的砂纸,把取样时表面留下的变形层减少到比较低程度甚至为零,并使试样表面平整,也为抛光奠定良好的基础;抛光是去除磨光时留下的磨痕,对已选定表面进行镜面化处理,提高试样表面的光反射性,抛光后的试样表面应是平整、光洁、干净的镜面;浸蚀是利用化学物质的腐蚀性使试样的内部组织能清晰的展示在显微镜下。整个金相制样过程需要有认真细致的工作态度和熟练过硬的技术技能。金相磨抛机操作面板单独安装,拆卸方便、操作、维护方便。台州手自一体金相磨抛机源头厂家
金相磨抛机(双盘单控PC-20)手动台式机,左盘用于研磨,右盘用于抛光,可以两人同时操作使用,本机是集金相预磨、研磨和抛光等多功能于一体,转动平稳、安全可靠、噪音低、操作简单,适用于对金相试样进行粗磨、精磨、粗抛至精抛的设备。外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型,表面光滑美观、免喷漆,表面划痕修复简单。锥度磨盘系统,更换清理更容易。大口径的排水管道,不容易堵塞。底盘转动平稳,噪音小,支持快速转换盘系统。无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨和抛光模式。水流量可调。台州手自一体金相磨抛机源头厂家金相磨抛机带有停止紧急功能,保证使用安全。
金相磨抛机金相制样:基本概念:a.金属学:研究成分、组织结构及其变化,以及加工和热处理工艺等对金属、合金性能的影响和他们之间相互关系的学科。b.金相检验:应用金相学方法检查金属材料的宏观和显微组织的工作。c.金相学:狭义的金属学,也就是研究合金相图,用肉眼观察,在放大镜和显微镜的帮助下,研究金属和合金的组织和相变的学科。d.相:所谓“相”就是合金中具有同一化学成分、同一结构和同一原子聚集状态的均匀部分。不同相之间有明显的界面分开。合金的性能一般都是有组成合金的各相本身的结构性能和各相的组合情况决定的。合金中的相结构大致可分为固溶体和化合物两大基本类型。e.组织:泛指用金相观察方法看到的,由形态,尺寸不同、分布方式不同的一种或多种相构成的总体,以及各种材料缺陷和损伤。
金相磨抛机技术参数:工作盘 Φ200mm/Φ230mm/250mm,转速 100-1000r/min,三档定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定义,旋转方向 顺时针或逆时针可调,电机功率/电源电压 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE),水压 1-10bar/0.1-1Mp,进水管 Φ8mm长2m,排水管 内径Φ40,环境温度 5-40℃,尺寸 720x6855x320mm,重量 50Kg。装箱清单:金相磨抛机 1台,进水管(带接头) 1根,排水管 1根,电源线(国标插头) 1根,卡圈 2个,砂纸(320#、600#、800#、1000#各一张) 4张,植绒 1张,帆布 1张,操作手册 1套,合格证 1张 金相磨抛机(全自动)电源电压:AC220V 50HZ (N+L1+PE)。
金相磨抛机:手工磨光法是把使用放在垫有平玻璃板或平铁板的金相砂纸上进行推磨。为了保证试样试面平整而不产生弧形,在磨面上所施力应力求均衡,磨面与砂纸接触。同时磨削应循单方向进行,向前推行时进行磨削,回程时把试样提离砂纸。细磨时一般依次从0号(W40)开始,逐一换细一号的砂纸推磨,一般钢铁试样磨到04号砂纸,软材料如铝、镁等合金可磨到05号砂纸。每换下一号细砂纸时,应将试样和手冲洗干净,并将下面垫的玻璃板擦干净,谨防粗砂粒掉入细砂纸上,同时磨面方向应旋转90°,以便观察上次磨痕是否磨掉。在细磨较软的金相试样时,如铝、镁、铜等有色金属是应该在砂纸上涂一层润滑剂,可防止砂粒嵌入软金属材料内,同时减少表面撕损现象。常用的润滑剂有机油、石蜡、汽油溶液、汽油、皂化水溶液、甘油水溶液等。金相磨抛机(全自动)磨抛制样时间:0-99min。台州手自一体金相磨抛机源头厂家
金相磨抛机(全自动)带自动锁紧功能通过编程实现连续制样。台州手自一体金相磨抛机源头厂家
金相磨抛机:一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉,接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱,其自由能也较高,所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹,见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体,各晶粒的取向不会一致,因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的,所以每一颗晶粒溶解的结果不一样,都把按原子排列密的面露在表面,也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下,各晶粒的反射光方向不一致,就显示出亮度不一致的晶粒。台州手自一体金相磨抛机源头厂家