在金相试样制备过程中,试样的磨、抛光是必不可少的工序,试样经过磨抛后,可获得光亮如镜的表面。此机器采用了变频器调速, 可使磨抛盘的转速在50-1000r/min之间,无极可调,通过更换金相砂纸和抛光织物可以完成试样的磨、抛工序,展现了它的应用性。壳体采用整体吸塑,外观新颖,具有转动平稳、噪声小、操作方便、工作效率高等特点,并自带冷却装置,可以在磨抛时对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织。适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室,是金相试栏麼抛光的设备。金相磨抛机无极调速,更方便得到需求的转速。气动加压金相磨抛机厂家
金相磨抛机为气动磨抛机,采用8寸彩色触摸屏PLC控制;具备双通道自动磨料添加系统,PLC控制磨料的智能化喷洒添加;自动调节研磨压力以及研磨时间;自动存储当前磨抛方案。同时可磨制8个试样块,选配特殊夹具能对特殊规格尺寸的样块进行精密研磨抛光。 可实现对常规黑色金属、有色金属、各种合金、陶瓷、岩石、玻璃、电子器件以及一些新型材料类等各种材料的精密研磨抛光,能够满足各级实验室的快速、高效、精密制样要求。PLC智能控制系统:彩色触摸屏、PLC控制系统,菜单式选项,智能化操作界面。具备100种磨抛方案自动存储功能,实现对多种材料样件磨抛方案的快速选择。杭州中心加压金相磨抛机经济实用金相磨抛机多试样夹持器可根据客户需求定制。
金相磨抛机(双盘双控PC-2V)在金相试验室,金相试样制备过程中,预磨、抛光、研磨三种功能集为一身,可适应多种材料的试样制备,磨抛盘的转速可操作,是企业、科研单位以及各大院校试验室的理想制样设备。特点:外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型,表面光滑美观、免喷漆,表面划痕修复简单。锥度磨盘系统,更换清理更容易。大口径的排水管道,拆卸方便,便于清理,不容易堵塞。底盘转动平稳,噪音低,支持快速转换盘系统。双工位操作,增加使用高效性和灵活性。无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨合抛光模式。水流量可调。
金相磨抛机抛光案例: 打磨:240# 600# 1200# ,转速:300转左右,转盘方向:顺时针,压力:30N即可,每道砂纸时间:1分钟左右(划痕均匀,没有多面出现)打磨:4000# 沿着一个方面手磨,抛光:转速:300转左右,转盘方向:顺时针 ,压力:30N即可。 抛光:真丝绸布,纹路均匀,进口硬质背基金刚石喷雾抛光剂/金刚石悬浮抛光液:5微米 420毫升 时间:5-10分钟(喷2-3次溶液)防氧化抛光润滑液防止过于干燥过热,抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注:抛光前,抛光布保持干净,完全湿润;1、精抛短绒,进口硬质背基,2、进口工艺氧化铝抛光液:0.05微米, 3、防氧化抛光液时间:5-10分钟(喷2-3次溶液)会出现模糊氧化层,需要进行氧化抛光,同时去除表面细小划痕防止过于干燥过热,抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注:抛光前,抛光布保持干净,完全湿润 金相磨抛机(单盘/双盘)工作盘转向:顺时针或逆时针可调。
金相磨抛机:一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉,接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱,其自由能也较高,所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹,见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体,各晶粒的取向不会一致,因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的,所以每一颗晶粒溶解的结果不一样,都把按原子排列密的面露在表面,也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下,各晶粒的反射光方向不一致,就显示出亮度不一致的晶粒。金相磨抛机(全自动)力度控制精确,可连接自动滴液器功能。台州双盘手动金相磨抛机品牌有哪些
金相磨抛机表面光滑美观、免喷漆,表面划痕修复简单。气动加压金相磨抛机厂家
金相磨抛机抛光时注意事项:抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大,并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多,会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落,抛光面质量不佳;若抛光液太少,将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动,以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。 尽量减少抛光面表层金属变形的可能性,整个光时间不易过长,磨痕全部消除,出现镜面后,抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。气动加压金相磨抛机厂家