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来源: 发布时间:2023年06月26日

照明系统通常包括光源,聚光镜及其他辅助透镜、反射镜。其中,光源的亮度、发光面积、均匀程度决定了聚光照明系统可以采用的形式。照明系统可采用的光源有卤钨灯、金属卤化物灯、高压汞灯、发光二 极管 (LED)、 氙灯、电弧灯等。有些光源在其发光面内具有足够的亮度和均匀性 ,可以用于直接照明 ,但大多数情况下,光源后面需要加入由聚光镜等构成的照明光学系统来实现一定要求的光照分布,同时使光能量损失小,这两方面是对不同照明系统进行设计时需要解决的共同问题。照明光学系统注重的是能量的分配而不是信息的传递,所关心的问题并不是像平面上的成像质量如何,而是被照明面上的照度分布和大小。共聚焦显微镜主要应用于:生物学领域、高分子化学领域、表面粗糙度领域。变倍 显微镜排行榜

典型的共焦显微镜装置是在被测对象焦平面的共轭面上放置两个小孔,其中一个放在光源前面,另一个放在探测器前面,如图1所示。由图可知,当被测样品处于准焦平面时,探测端收集到的光强比较大;当被测样品处于离焦位置时,探测端的光斑发生弥散,光强迅速减小。因此,只有焦平面上的点所发出的光才能透过出射针(zhen)孔,而焦平面以外的点所发出的光线在出射针(zhen)孔平面是离焦的,绝大部分无法通过中心的针(zhen)孔。因此,焦平面上的观察目标点呈现亮色,而非观察点则作为背景呈现黑色,反差增加,图像清晰。在成像过程中,两针(zhen)孔共焦,共焦点为被探测点,被探测点所在的平面为共焦平面。变倍 显微镜排行榜透射电镜主要应用于半导体和芯片研发、缺陷分析和工业检测等方面。

体视显微镜和光学显微镜的区别

体视显微镜是利用双通道光路,为左右两眼提供一个具有立体感的图像。它实质上是两个单镜筒显微镜并列放置;光学显微镜是利用光学原理,把人眼所不能分辨的微小物体放大成像,以供人们提取微细结构信息的光学仪器。体视显微镜其光学结构与普通光学显微镜不同,体视显微镜的成像具有三维立体感的;而普通光学显微镜的成像不具有三维立体感。体视显微镜被广泛应用在工业上更重要的特点是因为其立体感强,成像清晰和宽阔,又具有长工作距离,并是适用范围非常广的常规显微镜,操作方便,直观,检定效率高;光学显微镜在地质学等理工科专业中有重要应用。

显微镜透射照明的方式有两种:(1)临界照明这种照明要求聚光镜所成的光源像与被观察物体的物平面重合,如图1所示,相当于物面上放置一个光源,灯丝的形状同时出现在像面上,而造成不理想的观察效果。临界照明透射照明中,为使物镜的孔径角得以充分利用,聚光镜应有与物镜相同或稍大的数值孔径。临界照明聚光镜的孔径光阑常设在聚光镜的物方焦平面上,如果显微镜用的是远心物镜,聚光镜的出射光瞳与物镜的入射光瞳重合。聚光镜的光阑做成可变光阑,可任意改变射入聚光镜的孔径角,使之与物镜的数值孔径匹配。由于临界照明聚光镜的出射光瞳和像方视场分别与物镜的入射光瞳和物方视场重合,所以形成“瞳对瞳,视场对视场”的光管。临界照明的缺点在于当光源亮度不均匀或者呈现明显的灯丝结构时,将会反映在物面上,使物面照度不均匀,从而影响观察效果。为了达到比较均匀的照明,这种照明方式对发光体本身的均匀性要求较高,同时要求被照明物体表面和光源像之间有足够的离焦量。后续物镜的孔径角应该取大一些,如果物镜的孔径角过小,焦深会很大,容易反映出发光体本身的不均匀性。 聚焦离子束(FIB)显微镜;

共聚焦主要的观察对象是荧光。通俗来讲,是指用波长短的光照射某物质,该物质被照射时,由于光激发原理,能发射出比照射光波长较长的光,后者即为荧光。我们观察的荧光物质主要为荧光蛋白或荧光染料,可能样本本身也会有一些自发荧光。具体到共聚焦显微镜上,就是用不同的激光器去激发样本中的荧光染料,使之发射不同的荧光,就可以得到多色荧光图像了。不管是荧光染料还是荧光蛋白,或是其它荧光材料,都有其荧光特性,主要指激发光(Ex)-Excitation与发射光(Em)-Emission。我们常说的488,543,633就是指相关荧光材料的激发光,但要注意,无论激发光还是发射光,都不是一个数值,而是一段波谱,只是为了日常使用方便才使用488nm这样的波谱峰值(Ex-Max)。透射电子显微镜、扫描电子显微镜、扫描隧道显微镜和原子力显微镜是各个高科技领域常用的四种显微镜。江苏显微镜常见问题

共聚焦显微镜为什么能比荧光显微镜拍的效果更好呢?变倍 显微镜排行榜

显微镜的观察方法

明视场观察:垂直照射测量物表面,适用于金属、印刷电路板、浅孔的表面观察。

暗视场观察:通过对从工件发出的散射光进行观察,可完成在明视场下观察不到的划痕、尘埃、凹凸,以及胜任低反射工件的观察。

偏光观察:观察具有偏光特性的物质,适用于半导体材料、液晶、结晶、金属组织、矿物等表面观察。

微分干涉(DIC)观察:利用Nomarski棱镜将光线分为两束,形成明暗和对比度变化,可进行立体观察。适用于观察硅片的结晶缺陷、磁头研磨面的损伤检查、涂装面、金属组织、矿石表面等。 变倍 显微镜排行榜

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