INFRAMET热成像校准系统经济型

NVS夜视设备多功能测试系统是一个模块化的测试系统，可测试长程夜视瞄准设备，同时支持测试短程夜视镜及双目夜视镜。因此NVS测试系统是一个多功能测试系统。NVS测试系统采用模块化设计，包括一组可切换的透射式光管、可移动的光源和一组靶标等模块。NVS测试系统的测试过程是基于MIL系列标准的建议。NVS测量系统投影一个标准靶标的图像到水平固定的被测夜视仪。通过调节两个旋钮，操作者可以控制透射到被测量夜视仪光的强度和靶标的类型。被测量器件生成一个畸变的标准靶标的图像。通过人眼观察或者借助测量工具如亮度计来评估这个畸变的图像，得到被测量器件的重要参数。高效热成像，基数参数精确调校，夜间监控更精确！INFRAMET热成像校准系统经济型

BLIQ黑体是使用三个温度调节器构建的。首先，标准Peltier元件能够在约0ºC至约100ºC范围内实现准确的温度调节。第二，液体冷却器用于将黑体温度降低到零度以下。第三，当温度超过100ºC时，可选加热器进行调节温度。BLIQ黑体附有专业用罩。当使用干燥氮气填充时，该罩可以保护黑体发射器免受结霜或湿气冷凝的影响。BLIQ黑体的特点是具有优异的温度分辨率、时间稳定性、温度均匀性和温度不确定性。所有这些功能使得BLIQ黑体被用作测试/校准热成像仪/IRFPA模块系统中的红外辐射源的理想选择，或国家标准实验室的温度标准。安徽热成像校准系统工作原理INFRAMET SIM 热成像光电测试系统，精确热成像，基数参数智能调整，守护安全，从细节开始！

MS多波段整机测试系统一系列不同的辐射源可以用在投影系统中（光谱范围扩展到SWIR的光源或者MTB黑体）以及一系列SWIR用于投影系统中的靶标也可用于测量。

测量成像整机系统轴校准：电控的测试系统生成由被测试热像仪及相机生成的图像并计算两者之间的角度：a)热像仪在不同视场下的光轴；b)相机在不同镜头放大率下的光轴；c)热像仪与相机之间的光轴。激光系统轴对准：计算机控制的测量系统分析激光系统在激光敏感卡上生成的图像并计算光轴间的夹角：激光光轴（激光测距仪，激光指示器，激光照射器等）相对于成像系统光轴。注意：MS系统可以进行激光测距仪发射光轴的校准。这里假定激光测距仪发射光轴与接收已经调整好。这里可选测量激光测距仪的光轴对MS系统轴的能力。

测量SWIR相机：SIWR投影系统与图像分析计算机系统相结合来测量SIWR相机。它包括CDT反射式平行光管，SWIR光源，和一组SWIR靶标；测量不同图像格式的热像仪：当采用模拟视频采集卡并且测量分辨率小于等于756×576的25Hz的视频图像时；也可以选择数字图像采集卡（CameraLink,或GigE，或LVDS，USB2.0）作为测量高分辨率高帧频的数字输出传感器。

MS300测试系统外观图MS系列系统是Inframet主要测试系统，可测量多种红外整机系统：热像仪，可见光-近红外相机，短波红外相机、激光测距机和多传感器测试系统等，进行系统的测试和轴对准的测试。

测试功能1.不同视场适用波段：可见光，近红外，短波红外，中波红外和长波红外；2.可测量多种红外整机系统：热像仪，可见光-近红外相机，短波红外相机、激光测距机和多传感器测试系统等；

MS多波段整机测试系统测量不同系统的原理如下。测试热像仪：图像投影仪投射图像到中波/长波范围热像仪，由计算机系统生成的图像分析被检测热像仪。高精度的离轴反射式CDT平行光管，TCB差分黑体，以及一组红外靶标用于投影。测试可见光/NIR相机：可见光/NIR投影系统与图像分析计算机系统相结合来测量电视相机。包括CDT反射式平行光管，可见光/NIR光源，和一组可见光靶标； 专业校准，Inframet DTR短焦热像仪测试系统热成像更出色，基数参数优化，安全升级！

可见光靶标主要分为两类：A)反射式靶标，B）透射式靶标。反射式靶标无法提供高精度的靶标图形因此只能用于可见光成像系统简单的评估测试。透射式靶标的精度可以达到次微米级，通常采用在干净的玻璃基板上光刻的方法而得到。Inframet采用USAF1951靶标，其具备很好的通用性，既支持低分辨率相机测试，也同时支持高分辨率相机测试。

产品参数：

参数：数值

图案类型：3杆

图案组数：0到7(可选0-8)

空间频率范围：1-228lp/mm(可选1-456lp/mm)

对比度：百分之二到100%

基板：钠钙玻璃(可选石英)

图形镀膜：铬

靶标板尺寸：23x23mm 专业校准，热成像基数参数精确无误，守护更周全细致！北京热成像校准系统设备制造

Inframet DT 热成像光电测试系统智能校准，热成像更精确，基数参数调整，让细节无所遁形！INFRAMET热成像校准系统经济型

在国际市场提供的典型面源黑体（包括Inframet提供的TCB/MTB黑体）被优化，以模拟在常用的红外辐射光谱带中的黑体目标：约1μm至约15μm。这种黑体的发射面的高发射率是通过温度受控的金属板，与其涂覆的高吸收性涂料薄层来实现。由于这种黑体的发射率在波长约0.1mm处开始下降，并且在波长超过约1mm变得非常低，所以典型的面源黑体不能用于模拟THz带（0.1mm至1mm）和亚THz带（1mm至10mm的波长）的黑体目标温度。在典型的红外黑体中使用的高辐射率涂层对于太赫兹光学辐射而言变得部分半透明，特别是在长波处大约0.5mm。INFRAMET热成像校准系统经济型