三、性能参数:纯度:高质量的ITO靶材通常要求有99.99%(4N)至99.999%(5N)的高纯度。纯度越高,杂质越少,靶材产生的薄膜缺陷也相应减少。晶体结构:ITO靶材一般具有立方晶系的结构,晶格...
靶材是制备半导体材料中不可或缺的重要材料之一。它是指用于溅射制备薄膜的材料,通常为金属、合金、氧化物等。在制备半导体薄膜时,靶材材料被加热至高温后,原子从材料表面蒸发并沉积在衬底上,形成所需的薄膜。靶...
耐腐蚀性: 镍靶材特有的耐腐蚀性,使其能够在恶劣环境下稳定工作,如在酸性或碱性条件下依然保持性能稳定,特别适合用于化学腐蚀性较强的工业环境。高纯度: 通常,镍靶材具有极高的纯度(多在99.99%以上)...
平面显示器(FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场,亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。如今的iTO靶材有两种.一种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结,一种...
四、应用建议:1.触摸屏和显示器:-在制备触摸屏和液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)等显示设备的透明导电膜(TCF)时,建议使用高纯度、粒度细小的ITO靶材以获得良好的透明度和电导率。-...
(3)溅射镀膜:在溅射镀膜过程中,溅射靶材需要安装在机台中完成溅射反应,溅射机台**性强、精密度高,市场长期被美国、日本跨国集团垄断。(4)终端应用:1)半导体芯片:单元器件中的介质层、导体层与保护层...
FPD和导电玻璃的尺寸都相当火,导电玻璃的宽度甚至可以达到3133mm,为了提高靶材的利用率,开发了不同形状的ITO靶材,如圆柱形等。2000年,国家发展计划委员会、科学技术部在《当前优先发展的信息产...
(1)靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的**部分,涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。(2)背板起到主要起...
在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下,Ar...
制备薄膜:靶材作为溅射沉积技术的关键材料,可以用于制备各种半导体薄膜,如Si、Si3N4、GaAs等。利用靶材在真空条件下的放电现象,可以使得靶材材料被氩气等惰性气体离子轰击而产生丰富的高能量离子,这...
深入理解靶材的重要性:通过深入理解不同类型的靶材及其特性,可以更好地进行材料选择和工艺优化。这不仅对提高产品质量和生产效率至关重要,也是推动高科技领域,如半导体、新能源和材料科学等领域发展的关键。选择...
纯度:一般在99.99%,可做4N5。纯度是影响材料电导性、磁性以及化学稳定性的重要因素。晶体结构: 通常为面心立方晶格(FCC)。有利于提供良好的机械性能和高度的热稳定性。热导率: 一般在90-10...
靶材的选择和使用注意事项选择靶材时的考虑因素:物理和化学属性:包括靶材的熔点、导电性、化学稳定性等。例如,高温应用通常需要选择高熔点、化学稳定性强的陶瓷靶材。成本效益:在保证性能的前提下,考虑靶材的经...
4.性能参数a.纯度钨靶材的纯度通常达到99.95%或更高。纯度是影响靶材性能的关键因素,它决定了材料的均匀性和应用性能,尤其在半导体制造和高精度科学实验中极为重要。b.晶体结构钨靶材的晶体结构通常为...
铜与铝相比较,铜具有更高的抗电迁移能力及更低的电阻率,能够满足!导体工艺在0.25um以下的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题:铜与有机介质材料的附着强度低.并且容易发生反应,导致在使用过程中芯片的...
ITO(Indium Tin Oxide,锡掺杂氧化铟)是一种应用***的透明导电材料。其具有优异的光学透过率和电导率,因此在液晶显示器(LCD)、触摸屏、光伏电池和有机发光二极管(OLED)等领域有...
但是靶材制作困难,这是因为氧化铟和氧化锡不容易烧结在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作为烧结添加剂,能够获得密度为理论值的93%~98%的靶材,这种方式形成的ITO薄膜的性能与添加剂的关系...
基于锗锑碲化物的相变存储器(PCM)显示出***的商业化潜力,是NOR型闪存和部分DRAM市场的一项替代性存储器技术,不过,在实现更快速地按比例缩小的道路上存在的挑战之一,便是缺乏能够生产可进一步调低...
靶材是半导体薄膜沉积的关键材料,是一种用于溅射沉积的高纯度材料。根据半导体材料的种类,靶材可分为多种类型,包括硅(Si)、氮化硅(Si3N4)、氧化物(如二氧化硅、三氧化二铝等)、化合物半导体(如砷化...
三、性能参数:纯度:高质量的ITO靶材通常要求有99.99%(4N)至99.999%(5N)的高纯度。纯度越高,杂质越少,靶材产生的薄膜缺陷也相应减少。晶体结构:ITO靶材一般具有立方晶系的结构,晶格...
5.应用建议a.选择适合的钨靶材规格针对不同的应用领域和设备,选择合适规格和尺寸的钨靶材至关重要。例如,在半导体制造中,应选择高纯度、精细晶体结构的靶材;而在X射线生成应用中,则可能需要更大尺寸和特定...
靶材,就像它的名字暗示的那样,可以想象成射箭时箭靶的那块区域,只不过在我们讨论的科学和工业领域里,这个“箭靶”被用于非常特殊的目的。在物理、材料科学或者电子制造等行业中,靶材是一块通常由金属或其他材料...
碳化硅靶材的基本特性中的物理特性:高密度:碳化硅靶材具有高密度,这意味着它能提供较高的靶材利用率,降**造过程中的材料浪费。极高硬度:硬度是材料抵抗形变的能力,碳化硅的摩氏硬度高达9-10,仅次于钻石...
真空热压工艺:真空环境下压制:将ITO粉末在真空环境下通过热压工艺进行成型。真空环境可以有效防止材料氧化,并且可以减少杂质的引入。同步进行热处理:与传统的压制成型不同,真空热压将压制和热处理合二为一,...
4.防潮措施:-存储区域的相对湿度应保持在40%至60%之间。可以使用干燥剂和湿度控制系统来维持适宜的湿度。5.保养和清洁:-定期检查靶材的完整性,如果发现裂纹或者其他损伤,应避免使用。-在清洁靶材时...
5.真空封装:-未使用的ITO靶材应真空封装储存,避免空气中的湿气和氧化作用影响靶材品质。6.清洁工具:-应准备**的无尘布、高纯度溶剂和其他清洁工具,用于靶材的清洁和维护。7.磨损监测工具:-定期使...
ITO(Indium Tin Oxide,锡掺杂氧化铟)是一种应用***的透明导电材料。其具有优异的光学透过率和电导率,因此在液晶显示器(LCD)、触摸屏、光伏电池和有机发光二极管(OLED)等领域有...
用更通俗的比喻,想象你在用彩弹枪射击一个涂有多种颜色油漆的墙壁,墙壁上的油漆颗粒被击中后,会飞溅到对面的一张白纸上,**终在白纸上形成了一个彩色的图案。在这个比喻中,涂有油漆的墙壁就像是靶材,白纸就是...
众所周知,靶材材料的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关,随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进,靶材技术也应随之变化。如Ic制造商.近段时间致力于低电阻率铜布线的开发,预计未来几年...
一、靶材的定义靶材是指用于产生粒子束并进行实验分析的材料,在物理、化学、材料学等领域中广泛应用。粒子束包括各种粒子,如电子、中子、质子、离子等。靶材通常需要具有适当的化学组成和物理性质,以便在特定的实...