光学镀膜材料你还知道有哪些呢？锗化锌(ZnGe)：疏散的锗化锌具有一个比其相对较高的折射率,在500NM时N=2.6,在可见光谱区以及12000—14000NM区域具有较少的吸收性并且疏散的锗化锌没有其材质那么硬.使用钽舟将其蒸发到150摄氏度的基板上制备SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜层试图获到长波长IR渐低折射率的光学滤镜。氧化铪(HfO2)：在150摄氏度的基板上有用电子枪蒸着,折射率在2.0左右,用氧离子助镀可能取和得2.05—2.1稳定的折射率,在8000—12000NM区HFO2用作铝保护膜外层好过SIO2。氧化锆化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。淮南光...

PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。如PVD镀膜前处理不净、清洗不良、电解液成分失调及杂质污染、生产环境不良等。PVD镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。PVD镀膜加工在影响产品质量的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)中，人是一位的。PVD镀膜故障的发生都与操作工专业技能和工作责任心有关。PVD镀膜生产管理人员对操作工指导和监督不力，这些在PVD镀膜企业较普遍存在的状况,PVD镀膜使得故障在所难免。要减少PVD镀膜生产故障，提高PVD镀膜从业人员的专业技能和工作责任心是十分重要的。PVD镀膜加工生产故障是每个PVD镀膜企业都会...

光学镀膜的方法：对于标准光学镀膜，镀膜技术人员可以采用三种沉积方法：热蒸镀、离子束技术，以及高级等离子体反应溅射 (APRS)。但是，并非所有方法都适用于高功率光学镀膜。热蒸镀方法是如今行业中较常用的高功率光学镀膜生产方法，采用离子辅助沉积 (IAD) 进行强化后，热蒸镀方法可生产更紧密且性质更接近疏松材料的镀膜。运用 IAD，还可以对层厚度进行更好的控制，如此能降低 EFI 值。离子束技术现在已得到承认，并普遍用于薄膜镀膜的制造，它可以作为热蒸镀的强化方式 (IAD)，也可以作为溅射技术（离子束溅射 (IBS)）。IBS 是高级沉积技术，但是不存在决定性证据支持其产生的损伤阈值高于热蒸镀方式...

光学镀膜材料：金属（合金）类：锗：稀有金属，无毒无放射性，主要用于半导体工业塑料工业，红外光学器件，航天工业，光纤通讯等；铬：有时用在分光镜上并且通常用作”胶质层”来增强附着力；铝：在紫外域中它是普通金属中反射性能较好的一种，其膜的有效厚度为50NM以上；银：如果蒸发速度足够快并且基板温度不很高时，银和铝一样具有良好的反射性，这是在高速低温下大量集结的结果，这一集结同时导致更大的吸收；金在红外线100nm波长以上是已知材料中具有较高反射性的材料。目前“预熔化”光学材料在国内外得到大规模应用。河北镀膜材料要多少钱怎么高效地进行光学镀膜设计？很多做着相关工作的人都想知道这个答案，我们知道薄膜材料是...

光学镀膜材料的特点：从化学结构上看，固体材料（薄膜）中存在着以下键力：离子键、共价键、金属键、分子键。由于化学键的特性，决定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特点：氧化物膜料大都是双电荷（或多电荷）的离子型晶体结构，因此，决定了氧化物膜料具有熔点高、比重大、高折射率和高机械强度。它们的折射率一般在1.46~2.7之间。它们也被称作硬介质光学材料。而氟化物中除含有离子键外，大多含有一定的结合力相对弱的分子键，而且氟离子的单电荷性都决定了氟化物膜料具有低熔点、小比重、低折射率和较差的机械强度（膜层较软）。它们的折射率一般在1.35~1.47之间，它们也被称为软介质光学薄膜材料。金属或合金含有大量的自...

光学镀膜材料：简要描述它的应用原理有哪些？光学镀膜材料的定义：由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束一类光学介质材料，光学镀膜的应用始于20世纪30年代，光学镀膜已经普遍用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。制备条要求件高而精。光学镀膜的定义是：涉及光在传播路径过程中，附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层，通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性，以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或偏振分离等各特殊形态的光。于化学键的特性，决定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特点。宁波镀膜材料订做镀膜加工过程中清洁工作的重要性： 真空镀膜加工表面的清洁处理...

光学镀膜的物理方法：使用机械的、机电的、热力的方法来产生形成固态薄膜。通常是物理的气相沉积的方法。以下是常见的物理镀膜工艺：热蒸发镀膜：将薄膜物质加热蒸发，在比蒸发温度低的基本表面上凝结成固体形成薄膜的方法。电子束蒸发镀膜； 通过电子束轰击镀膜材料加热并使材料蒸发，并沉积在基板上。优点是加热集中，并能达到很高的温度来处理高熔点的材料。离子束辅助沉积：类似于E-beam evaporation工艺，改善的地方是用离子束来导向及加速气化的镀膜材料，并且离子束在材料沉积的过程中帮助沉积以及使沉积膜紧密化，就像小小的锤子一样。为了消除光学部件表面上的反射损失并改善图像质量，涂覆了一层或多层透明介电膜，...

光学镀膜用于增强光学组件的透射、反射或偏振特性。例如，每个未镀膜玻璃器件表面将会有大约10%的入射光被反射。采用增透膜可将各表面的反射率降低到 0.1% 以下，采用高反射介电膜可将反射率提高到 99.99% 以上。光学镀膜由氧化物、金属或稀土材料等薄层材料组成。光学镀膜的性能取决于层数、厚度和不同层之间的折射率差异。为了较大程度地提高或降低干涉，它们的光学厚度通常为应用中所使用的光的波长的 λ/4 光学厚度 (QWOT) 或 λ/2 光学厚度 (HWOT)。这些薄膜由高折射率和低折射率交替而成，从而诱发需要的干涉效应。光学镀膜具有丝印、热转印、激光雕刻、绘图工艺，可获得多种色调的耀眼光泽。鹤壁...

光学真空镀膜机对手机、数码产品和管道也有同样的装饰要求。光学镀膜可以通过基本电镀膜和透明介质多层膜获得多种颜色、色调和金属光泽。具有丝印、热转印、激光雕刻、绘图工艺，可获得多种色调的耀眼光泽，光学涂层可加强条纹和图案的立体视觉，还可以提高真空镀膜的性能，做到降低材料消耗光学真空镀膜机镀膜是指在光学零件表面镀一层(或多层)金属(或介质)薄膜的过程。光学零件表面电镀的目的是减少或增加光反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的涂层法是真空涂层(物理涂层之一)和化学涂层。镀膜供应商必须有可用的分光光度计，用来测量不同入射角和偏振角下，膜层的反射和透射参数。盐城镀膜材料供应商高功率光学镀膜的制造之材料...

光学镀膜材料你还知道有哪些呢？氟化钍（ThF4）：260—12000nm以上的光谱区域，是一种良好的低折射率材料，然而存在放射性，在可视光谱区N从 1.52降到1.38(1000nm区域)在短波长趋近于1.6,蒸发温度比MGF2低一些,通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去,而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收,这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性,在8000到12000NM完全没有材料可以替代。二氧化硅(SIO2)：名称: 二氧化硅(SIO2) 经验告诉我们,,氧离子助镀(IAD)SIO将是SIO2薄膜可再现性...

光学镀膜材料你还知道有哪些呢？锗化锌(ZnGe)：疏散的锗化锌具有一个比其相对较高的折射率,在500NM时N=2.6,在可见光谱区以及12000—14000NM区域具有较少的吸收性并且疏散的锗化锌没有其材质那么硬.使用钽舟将其蒸发到150摄氏度的基板上制备SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜层试图获到长波长IR渐低折射率的光学滤镜。氧化铪(HfO2)：在150摄氏度的基板上有用电子枪蒸着,折射率在2.0左右,用氧离子助镀可能取和得2.05—2.1稳定的折射率,在8000—12000NM区HFO2用作铝保护膜外层好过SIO2。镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜。蚌埠镀膜材料...

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。在可见光和红外线波段范围内，大多数金属的反射率都可达到78%~98%，但不可高于98%。无论是对于CO2激光，采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜，采用锗、砷化镓、硒化锌作为输出窗口和透射光学元件材料，还是对于YAG激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料，都不能达...

常见的光学镀膜材料有以下几种：氟化镁：材料特点：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。二氧化硅：材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。氧化锆:材料特点 白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。 光学镀膜产品常见不良分析及改善方法： 镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜较终的品质是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对策镀膜不良时必须综合考虑，才能...

镀膜工艺：薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量只约0.1eV。IAD沉积导致电离化蒸汽的直接沉积并且给正在生长的膜增加活化能，通常为50eV量级。离子源将束流从离子喷头指向基底表面和正在生长的薄膜来改善传统电子束蒸发的薄膜特性。薄膜的光学性质，如折射率、吸收和激光损伤阈值，主要依赖于膜层的显微结构。薄膜材料、残余气压和基底温度都可能影响薄膜的显微结构。如果蒸发沉积的原子在基底表面的迁移率低，则薄膜会含有微孔。当薄膜暴露于潮湿的空气时，这些微孔逐渐被水汽所填充。溅射镀膜工艺可重复性好。三门峡镀膜材料购买光学...

光学镀膜材料真空蒸发镀膜：真空蒸发镀膜是指在真空条件下，利用膜材加热装置(称为蒸发源)的热能，通过加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面的一种沉积技术。被蒸发的物质是用真空蒸发镀膜法沉积薄膜材料的原材料，称之为蒸镀材料。真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。真空蒸发镀膜的基本原理如下：真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，是应用普遍的镀膜技术，主要应用于小尺寸基板材料的镀膜。薄膜材料，残余气压和基材温度...

光学镀膜的方法：对于标准光学镀膜，镀膜技术人员可以采用三种沉积方法：热蒸镀、离子束技术，以及高级等离子体反应溅射 (APRS)。但是，并非所有方法都适用于高功率光学镀膜。热蒸镀方法是如今行业中较常用的高功率光学镀膜生产方法，采用离子辅助沉积 (IAD) 进行强化后，热蒸镀方法可生产更紧密且性质更接近疏松材料的镀膜。运用 IAD，还可以对层厚度进行更好的控制，如此能降低 EFI 值。离子束技术现在已得到承认，并普遍用于薄膜镀膜的制造，它可以作为热蒸镀的强化方式 (IAD)，也可以作为溅射技术（离子束溅射 (IBS)）。IBS 是高级沉积技术，但是不存在决定性证据支持其产生的损伤阈值高于热蒸镀方式...

光学镀膜技术在过去几十年实现了长足的进展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术进展包括：间歇式直接光控。光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间；渐变折射率结构薄膜技术与装备。已经有大量研究工作已经证实Rugate无界面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除了薄膜界面特...

光学镀膜的原理：在对光学部件的表面进行涂层之后，光学镀膜在涂层上多次反射和透射，从而形成多光束干涉。控制涂层的折射率和厚度可以获得不同的强度分布。这是干涉镀膜的基本原理。镀膜的光学性质，例如折射率，吸收率和激光损伤阈值，主要取决于镀膜的微观结构。薄膜材料，残余气压和基材温度都可能影响薄膜的微观结构。如果在基材表面上气相沉积的原子的迁移率较低，则镀膜将包含微孔。当薄膜暴露于潮湿空气中时，这些孔逐渐被水蒸气填充。如柱面镜。堆积密度定义为膜的固体部分的体积与膜的总体积（包括空隙和微孔）的比率。对于光学镀膜，光学冷加工堆积密度通常为0.75至1.0的，大多数为0.85至0.95，很少达到1.0。光学冷...

光学镀膜的滤光片简介：用来选取所需辐射波段的光学器件，滤光片的一个共性，就是没有任何滤光片能让天体的成像变得更明亮，因为所有的滤光片都会吸收某些波长，从而使物体变得更暗。滤光片原理：滤光片是塑料或玻璃片再加入特种染料做成的，红色滤光片只能让红光通过，如此类推，玻璃片的透射率原本与空气差不多，所有色光都可以通过，所以是透明的，但是染了染料后，分子结构变化，折射率也发生变化，对某些色光的通过就有变化了，比如一束白光通过蓝色滤光片，射出的是一束蓝光，而绿光、红光极少，大多数被滤光片吸收了。较先进的技术，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。郴州镀膜材料购买光学镀膜技术在过去几十年实现了长足的进展，...

光学镀膜用于增强光学组件的透射、反射或偏振特性。例如，每个未镀膜玻璃器件表面将会有大约10%的入射光被反射。采用增透膜可将各表面的反射率降低到 0.1% 以下，采用高反射介电膜可将反射率提高到 99.99% 以上。光学镀膜由氧化物、金属或稀土材料等薄层材料组成。光学镀膜的性能取决于层数、厚度和不同层之间的折射率差异。为了较大程度地提高或降低干涉，它们的光学厚度通常为应用中所使用的光的波长的 λ/4 光学厚度 (QWOT) 或 λ/2 光学厚度 (HWOT)。这些薄膜由高折射率和低折射率交替而成，从而诱发需要的干涉效应。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等...

光学镀膜材料溅射镀膜：溅射镀膜是指利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基板材料表面的技术。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜材料的原材料，称为溅射靶材。一般来说，溅射靶材主要由靶坯、背板(或背管)等部分构成，其中，靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的主要部分，在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成薄膜材料;由于溅射靶材需要安装在特用的设备内完成溅射过程，设备内部为高电压、高真空的工作环境，多数靶坯的材质较软或者高脆性，不适合直接安装在设备...

光学真空镀膜工艺是一项精密的科技，在真空状态下将高低折射率的薄膜材料通过蒸发工艺均匀地按照设计的厚度吸附在光学基材的表面。采用热蒸发，电子喷头，离子辅助等工艺方式进行真空镀膜。我们的镀膜设备采用冷凝泵，机械泵等各种设备，确保膜系精密稳定牢固。镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜较终的品质是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对策镀膜不良时必须综合考虑，才能真正找到不良产生的原因，对策改善才能取得成效。光学薄膜随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求。亳州光学镀膜材料品牌有哪些光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介...

光学镀膜材料：常见不良分析：膜强度不良的产生原因：基片与膜层的结合。一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因。由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质(如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主要)，很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好，吸附力强的基片尤其如此。当膜料分子堆积在这些杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。对于光学镀膜，光学冷加工堆积密度通常为0.75至1.0的，大多数为0.85至0.95，很少达到1.0的。驻马店镀膜材料厂家直销光学镀膜材料：常见不良...

光学镀膜材料你还知道有哪些呢？基本薄膜材料：三氧化二钇，（Y2O3）使用电子枪蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在500nm时折射率约为1.8.用作铝保护膜其极受欢迎,特别相对于800—12000nm区域高入射角而言,可用作眼镜保护膜,且24小时暴露于湿气中.一般为颗粒状和片状。二氧化铈（CeO2）：使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发,在200℃的基板上蒸着二氧化铈,得到一个约为2.2的折射率,在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生明显变化,在300℃基板500nm区域折射率为2.45,在波长短过400nm时有吸收,传统方法蒸发缺乏紧密性,用氧离子助镀可取得n=2.35(500...

“预熔化”光学镀膜材料：传统的光学镀膜材料其形态主要包括自由颗粒和药片状两种。镀膜时，先往坩埚中填充一定量的材料，然后进行预熔，一般地，根据不同的镀膜需要，预熔时间大约2h～4h。采用传统材料主要有以下问题: 其一，由于颗粒和小片堆积密度小，因此坩埚装料有限；其二，预熔需要大量时间，对于工业生产，降低了生产效率；其三，在实际镀膜过程中，随着材料的消耗，往往会产生薄膜性能的差异，所以实际上材料利用率非常有限。因此，当镀制多层精密膜系和规模化生产时，传统材料具有一定的局限性。“预熔化”光学镀膜材料正是针对以上缺点而设计的一种的材料。真空镀膜时的预熔过程是通过电子口轰击来实现的，对于氧化物镀膜材料来...

光学镀膜技术在过去几十年实现了长足的进展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术进展包括：间歇式直接光控。光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间；渐变折射率结构薄膜技术与装备。已经有大量研究工作已经证实Rugate无界面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除了薄膜界面特...

光学镀膜的滤光片特点：其主要特点是尺寸可做得相当大，薄膜滤光片，一般透过的波长较长，多用做红外滤光片，后者是在一定片基，用真空镀膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金属-介质-金属膜，或全介质膜，构成一种低级次的、多级串联实心的，膜层的材料﹑厚度和串联方式的选择，由所需要的中心波长和透射带宽λ确定。滤光片产品主要按光谱波段、光谱特性、膜层材料、应用特点等方式分类。光谱波段：紫外滤光片、可见滤光片、红外滤光片；光谱特性：带通滤光片、截止滤光片、分光滤光片、中性密度滤光片、反射滤光片；膜层材料：软膜滤光片、硬膜滤光片；硬膜滤光片：不只指薄膜硬度方面，更重要的是它的激光损伤阈值，所以它普遍...

随着技术与行业的发展，许多光学系统都开始依赖高功率激光光源。虽然标准镀膜技术可以提供具有成本效益、能轻松复制的精确结果，但是标准镀膜的耐受力存在限制，尤其是在受到强度高的照射时，更是如此。因此，通常需要使用专门的高功率光学镀膜。高功率光学镀膜可应用于多种光学元件，例如光学透镜，反射镜，窗口片，光学滤光片，偏振片，分光镜和衍射光栅。在如今的光学行业中，许多精密光学元件都使用镀膜，以改善针对特定波长或偏振状态的透射率或反射率。镀膜供应商必须有可用的分光光度计，用来测量不同入射角和偏振角下，膜层的反射和透射参数。益阳镀膜材料一般价格光学镀膜基本原理：光的干涉在薄膜光学中普遍应用。光学薄膜技术的普遍方...

二氧化硅在光学薄膜材料中的应用：随着真空镀膜技术的不断发展，以及二氧化硅具有的独特光学稳定性，二氧化硅体材在20世纪初，通过物理的气相沉积技术制作成二氧化硅薄膜。目前在光学薄膜技术领域中，也是紫外至近红外低折射率光学薄膜材料之一，对近紫外至近红外波段的低损耗、强激光及多层膜系通常都是之一的低折射率薄膜材料。光学薄膜特性的优劣取决于原材料的纯度、生产工艺以及生产环境，要提高二氧化硅薄膜的品质就要对熔融前的二氧化硅粉体加以提纯处理，降低羟基含量，以达到镀膜时速率平稳、减少放气量，减少喷溅点。光学镀膜材料滤光片主要特点是尺寸可做得相当大。洛阳镀膜材料企业光学镀膜的重要领域:在光学镀膜材料的应用中，涂...

常见的光学镀膜材料有以下几种：氟化镁：材料特点：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。二氧化硅：材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。氧化锆:材料特点 白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。 光学镀膜产品常见不良分析及改善方法： 镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜较终的品质是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对策镀膜不良时必须综合考虑，才能...