成都生物制药厂房设计

气流流型的设计应符合下列要求：1.气流流型应满足空气洁净度等级的要求。空气洁净度等级要求为1～4级2.时，应采用垂直单向流；空气洁净度要求为5级时，应采用垂直单向流或水平单向流。3.空气洁净度要求为6～9级时，宜采用非单向流。4.洁净室工作区的气流分布应均匀。5.洁净室工作区的气流流速应满足生产工艺要求。洁净室的送风量，应取下列三项中的最大值：1.为保证空气洁净度等级的送风量。2根据热、湿负荷计算确定的送风量。3.向洁净室内供给的新鲜空气量。4.为保证空气洁净度等级，送风量应按下表中有关数据进行计算或按室内发尘量进行计算。无菌实验室设计联系成都博一医药设计有限公司。成都生物制药厂房设计

洁净厂房内应设置人员净化、物料净化用室和设施，并应根据需要设置生活用室和其它用室。人员净化用室和生活用室的设置应为：人员净化用室，应包括雨具存放、换鞋、管理、存外衣、更换洁净工作服等房间。厕所、盥(guàn)洗室、淋浴室、休息室等生活用室以及空气吹淋室、气闸室、工作服洗涤间和干燥间等其它用室，可根据需要设置。人员净化用室和生活用室的设计，应符合下列要求：人员净化用室的入口处，应设净鞋措施。存外衣和更洁净工作服应分别设置。外衣存衣柜应按设计人数每人设一柜，洁净工作服宜集中挂入带有空气吹淋的洁净柜内。盥(guàn)洗室应设洗手和烘干设施。四川基因治疗净化厂房设计厂房设计口碑商家欢迎联系成都博一医药设计有限公司。

洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好湿度范围为35—45%。

根据《建筑设计防火规范》GB50016-2014，建筑物的耐火等级根据建筑构件（梁、柱、楼板、墙等）的燃烧性能和耐火极限一般分为四个等级。而一般医药化工厂房设施和仓库都是甲、乙、丙为主。因此需要根据原有厂房设计图纸，准确判定其原有耐火等级是否满足。原则上不去改变原有建筑物的耐火等级设计及使用性质。涉及耐火等级不满足的建筑物时，需重新选定改造地点。因此进行改造时还要注意以下几点，一是构建的保护层是否有脱落和变质，若是有就要加以加固；二是对于原有已经加固的部位，改造前应采用混凝土砂浆层对其进行防火保护；三是采用钢结构防火涂料的原有构件需重新经过质量检验合格后才可继续使用。厂房设计公司就找成都博一医药设计有限公司。

照明①一般照明它指不考虑特殊的局部需要，为照亮整个被照面积而设置的照明。②局部照明这是指为增加某一指定地点（如工作点）的照度而设置的照明。但在室内照明由一般不单独使用局部照明。③混合照明这是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《洁净厂房设计规范》应占总照度的10%—15%，但不低干150LX。单位被照面积上接受的光通量即是照明单位勒克斯(LX)。国外洁净室的强度要求极高，例如美国关于洁净室的几个标准的要求是．人工光300lx有较好的效果，当工件精细程度更高时，500x也是允许的。定制厂房设计口碑商家欢迎咨询成都博一医药设计有限公司。成都生物制药洁净厂房设计

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洁净室控制：对气压规定对于大部分洁净空间，是为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则：①洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。②洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。成都生物制药厂房设计