重庆增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe是非常独特的纳米和微米级3D打印技术。该公司成立于2007年，目前已经在激光光刻行业处于领头的地位。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT光刻系统主要通过在微尺度上运用激光来固化感光材料。3D打印材料主要包括液态的光敏材料和固态的旋涂光刻材料。凭着其独特的微尺度3D 打印技术与人性化的软件，Nanoscribe毫无疑问是增材制造领域里的一股颠覆性力量。ORNL的科学家们使用Nanoscribe的增材制造系统来构建世界上特别小的指尖陀螺， 该迷你玩具的宽度只为100微米（与人类头发的宽度相当）  Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司带您了解金属材料增材制造技术。重庆增材制造无掩膜光刻

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK 集团成为世界上头一家拥有双光子聚合 (2PP) 增材制造能力的生物科技公司。 Nanoscribe公司 的 2PP 技术能够在亚细胞尺度上对血管微环境进行生物打印，适用于细胞研究和芯片实验室应用。该技术未来也将助力集团的相关产品线开发，用于制造植入体、微针、微孔膜和组学应用耗材等。 CELLINK集团的前列宏观结构生物打印技术与 Nanoscribe 公司的微观结构生物打印技术相结合做到了强强联手的协作效应，可以实现更逼真的组织结构，例如血管化和细胞支持体等。 2PP 技术将实现CELLINK集团所有三个业务的跨领域应用，并增强集团的耗材产品开发和供应。 “借助 Nanoscribe 先进的 2PP 技术，我们可以实现扩大补充我们的产品组合，为我们的客户提供更广的产品。” 天津进口增材制造PPGT2Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司欢迎你一起探讨增材制造技术发展趋势和应用。

虽然半导体行业一直在使用3D打印技术，我们可能会有一个疑问，为什么我们没有听说，一个因素是竞争。如果全球只有四个庞大的大型公司，它们构成了光刻或制造机器的主要部分，那么这些公司并没有告诉外界关于他们应用3D打印技术的内幕，因为他们想确保的竞争优势。至少，对外界揭示其优化设备性能的技术，这种主观动机并不强。增材制造改善半导体工艺是多方面的，从轻量化，到随形冷却,再到结构一体化实现，根据3D科学谷的市场观察，增材制造使得半导体设备中的零件性能迈向了一个新的进化时代！在许多情况下，3D打印-增材制造可能使这些系统能够更接近理论上预期的工作环境，而不是在机器操作上做出妥协

   一般通俗地称增材制造为3D打印，而事实上3D打印只是增材制造工艺的一种，它不是准确的技术名称。增材制造指通过离散-堆积使材料逐点逐层累积叠加形成三维实体的技术。根据它的特点又称增材制造，快速成形，任意成型等。增材制造通过降低模具成本，减少材料，减少装配，减少研发周期等优势来降低企业制造成本，提高生产效益。具体优势如下：与传统的大规模生产方式相比，小批量定制产品在经济上具有吸引力；直接从3DCAD模型生产意味着不需要工具和模具，没有转换成本；以数字文件的形式进行设计方便共享，方便组件和产品的修改和定制；该工艺的可加性使材料得以节约，同时还能重复利用未在制造过程中使用的废料(如粉末、树脂)(金属粉末的可回收性估计在95-98%之间)；新颖、复杂的结构，如自由形式的封闭结构和通道，是可以实现的，使得部件的孔隙率非常低；订货减少了库存风险，没有未售出的成品，同时也改善了收入流，因为货物是在生产前支付的；分销允许本地消费者/客户和生产者之间的直接交互。

3D打印(3D Printing)，又称作增材制造，是一种用digital file (数字文件) 生成一个三维物体的过程。

   作为基于双光子聚合技术（2PP）的微纳加工领域市场带领者，Nanoscribe在全球30多个国家拥有各科领域的客户群体。基于2PP微纳加工技术方面的专业知识，Nanoscribe为顶端科学研究和工业创新提供强大的技术支持，并推动生物打印、微流体、微纳光学、微机械、生物医学工程和集成光子学技术等不同领域的发展。“我们非常期待加入CELLINK集团，共同探索双光子聚合技术在未来所带来的更大机遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler说道。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。

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  Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商，2019年6月25日，南极熊从外媒获悉，该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件，其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制，QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性，我们的客户正在微加工的前沿工作。 重庆增材制造无掩膜光刻