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线光谱共焦检测

来源: 发布时间:2024年09月28日

光谱共焦位移传感器原理,由光源、透镜组、控制箱等组成。光源发出1束白光,透镜组先将白光发散成一系列波长不同的单色光,然后经同轴聚焦在一定范围内形成1个连续的焦点组,每个焦点的单色光波长对应1个轴向位置。当样品处于焦点范围内时,样品表面将聚焦后的光反射回去。这些反射回来的光经过与镜头组焦距相同的聚焦镜再次聚焦后通过狭缝进入控制箱中的单色仪。因此,只有焦点位置正好处于样品表面的单色光才能聚焦在狭缝上 。单色仪将该波长的光分离出来,由控制箱中的光电组件识别并 得到样品的轴向位置。采用高数值孔径的聚焦镜头可以使传感器达到较高分辨率,满足薄膜厚度分布测量要求。光谱共焦位移传感器可以用于材料、结构和生物等领域的位移和形变测量。线光谱共焦检测

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光谱共焦测量技术由于其高精度、允许被测表面有更大的倾斜角、测量速度快、实时性高、对被测表面状况要求低以及高分辨率等特点,已成为工业测量的热门传感器,在生物医学 、材料科学、半导体制造、表面工程研究、精密测量和3C电子等领域广泛应用。本次测量场景采用了创视智能TS-C1200光谱共焦传感头和CCS控制器。TS-C系列光谱共焦位移传感器能够实现0.025 µm的重复精度、±0.02%的线性精度、30kHz的采样速度和±60°的测量角度,适用于镜面、透明、半透明、膜层、金属粗糙面、多层玻璃等材料表面,支持485、USB、以太网和模拟量的数据传输接口。线阵光谱共焦能测什么光谱共焦位移传感器在微机电系统、生物医学、材料科学等领域中有着广泛的应用。

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随着社会的发展,智能设备不断进化,人们对个性化的追求日益增加。复杂的形状意味着对点胶设备提出更高的精度和灵活性要求。当前在手机中板和屏幕模组贴合时,需要在中板上面点一圈透明的UV胶,由于其白色反光特性 ,只能使用光谱共焦传感器进行完美测量。光谱共焦传感器的复合光特性可以完美高速地测量胶水的高度和宽度。由于胶水自身特性是液体,成型特性是弧形,材料特性是透明或半透明。因此,采用光谱共焦传感器是当前解决高精度点胶需求的好方案之一,它具有非常高的分辨率和测量精度,并同时能够应对形状的复杂性和材料特性的多样性,能够满足各种行业的高精度测量要求。

光谱共焦技术将轴向距离与波长建立起一套编码规则,是一种高精度 、非接触式的光学测量技术。基于光谱共焦技术的传感器作为一种亚微米级、快速精确测量的传感器,已经被大量应用于表面微观形状、厚度测量、位移测量、在线监控及过程控制等工业测量领域。展望其未来,随着光谱共焦传感技术的发展,必将在微电子、线宽测量、纳米测试、超精密几何量计量测试等领域得到更多的应用。光谱共焦技术是在共焦显微术基础上发展而来,其无需轴向扫描,直接由波长对应轴向距离信息,从而大幅提高测量速度。光谱共焦位移传感器可以用于材料的弹性模量、形变和破坏等参数的测量。

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根据对光谱共焦位移传感器原理的理解和分析,可以得出理想的镜头应具备以下性能:首先,产生较大的轴向色差,通常需要对镜头进行消色差措施,而该传感器需要利用色差进行测量,需要将其扩大化 ;其次,产生轴向色差后,焦点在轴上会因单色光的球差问题而导致光谱曲线响应的FWHM(半峰全宽)变大,影响分辨率;同时,为确保单色光在轴上汇聚到单一点,需要控制其球差;为保证传感器的线性度并平衡其各聚焦位置的灵敏度,焦点位置应尽量与波长成线性关系。光谱共焦技术可以在环境保护中发挥重要作用。线阵光谱共焦能测什么

光谱共焦位移传感器是一种基于光谱分析的高精度位移测量技术,可实现亚纳米级别的测量。线光谱共焦检测

光谱共焦位移传感器在金属内壁轮廓扫描测量中具有大量的应用,以下是几种典型应用:尺寸测量利用光谱共焦位移传感器可以精确地测量金属内壁的尺寸,如直径、圆度等。通过测量内壁不同位置的直径,可以评估内壁的形变和扭曲程度,进而评估加工质量。表面形貌测量光谱共焦位移传感器可以高精度地测量金属内壁的表面形貌,如粗糙度、峰谷分布等。通过对表面形貌数据进行处理和分析,可以评估加工表面的质量 ,进而优化加工参数和提高加工效率。线光谱共焦检测

标签: 位移传感器