江苏迪纳科精细材料股份有限公司是一家主要生产和销售陶瓷,金属,合金等各类型靶材。陶瓷靶材以氧化铟基和氧化锌基为主,金属和合金靶材以各种熔炼工艺和挤压锻造工艺为主。
ITO靶材应用领域
1、平板显示器(纯度4N)在平板显示领域,ITO靶材主要用于制作ITO导电玻璃及触控屏电极平板,是LCD、PDP、OLED、触摸屏等各类平板显示器件制备的主要材料。显示面板一般涉及上下两层ITO导电膜,用量较大,ITO靶材是平板显示领域用量比较大的靶材之一。
2、薄膜太阳能电池(纯度4N)ITO是一种透明导电层,在太阳能电池中作为透光层,同时作为电极,一般为正极,另一个电极一般以金属银或铝作为背电极使用。ITO靶材主要用于生成太阳能薄膜电池的背电极。
3、保温透光领域ITO透明导电膜玻璃作为发热体,通电后可以除冰霜,用于飞机挡风玻璃、飞机防眩窗、激光测距仪、潜望镜观察窗等多年来已得到了大规模的应用。ITO透明导电膜玻璃正反面具有相反的红外线通过及反射性能,玻璃正面具有优良的红外线通性,衰减量极小,而反面又具有红外线阻挡反射作用,因而该种玻璃具有优良的保温透光性能,已大量用于制造冷藏柜,随着成本的降低将有望用于房屋节能。
陶瓷靶材和金属靶材各自优缺点;中国台湾智能玻璃陶瓷靶材多少钱
从ITO靶材的发展趋势来看:1)大尺寸化,在需要大面积镀膜时,通常将小尺寸靶材拼接焊接成大尺寸靶材,由于具有焊缝,靶材镀膜质量将降低;2)高密度化,在溅射过程中ITO靶材表面会出现结瘤现象,如果继续溅射,所制备的薄膜光学性能以及电学性能将降低。高密度的靶材具有较好的热传导性以及较小的界面电阻,因此结瘤现象出现的概率较小,所制备的ITO薄膜的质量较高,且生产效率、成本较低;3)提高靶材利用率,由于平面靶材在溅射过程中,中间部分难以被侵蚀,因此靶材利用效率相对较低。通过改变靶材形状,可以提高靶材的利用效率,从而降低备ITO薄膜的成本。河北氧化锌陶瓷靶材生产企业ITO靶材是当前太阳能电池主要的溅射靶材。
ITO靶材生产过程包括金属提纯和靶材制造两个主要环节。因高纯金属原料的品质影响靶材的导电性能等性状,对成膜的质量有较大影响,且靶材种类繁多,客户需求非标,定制属性明显。故而金属提纯环节技术壁垒及附加值均较高。其中铟属于稀散金属,因其具有可塑性、延展性、光渗透性和导电性等特点,而以化合物、合金的形式被广泛应用。目前,铟的主要应用领域是平板显示领域,包括ITO靶材及新兴的铟镓锌氧化物(IGZO)靶材,占全球铟消费量的80%;其次是半导体领域、焊料和合金领域、太阳能发电领域等。生产ITO靶材对于铟的纯度要求一般在4N5及以上,生产化合物半导体材料对于铟的纯度要求则更高,一般在6N及以上。
ITO陶瓷靶材在磁控溅射过程中,靶材表面受到Ar轰击和被溅射原子再沉积的多重作用而发生复杂的物理化学变化,ITO靶材表面会产生许多小的结瘤,这个现象被称为ITO靶材的毒化现象。靶材结瘤毒化后.靶材的溅射速率降低,孤光放电频率增加,所制备的薄膜电阻增加,透光率降低且均一性变差,此时必须停止溅射,清理靶材表面或更换靶材,这严重降低溅射镀膜效率。目前对于结瘤形成机理尚未有统一定论,如孔伟华研究了不同密度ITO陶瓷材磁控射后的表面形貌,认为结瘤是In2O3、分解所致,导电导热性能不好的In2O3又成为热量聚集的中心,使结瘤进一步发展;姚吉升等研究了结瘤物相组成及化学组分,认为结瘤是偏离了化学计量的ITO材料在靶材表面再沉积的结果;Nakashima等采用In2O3和SnO2,的混合粉末制备ITO靶材,研究了SnO2,分布状态对靶材表面结瘤形成速率的影响,认为低溅射速率的SnO2,在ITO靶材中的不均匀分布是结瘤的主要原因。尽管结瘤机理尚不明确,但毋庸置疑的是,结瘤的产生严重影响ITO陶瓷靶材的溅射性能,因此,对结瘤的形成机理进行深入研究具有重要意义。ITO靶材被广泛应用于各大行业之中,其主要应用分为:显示行业、薄膜太阳能电池、功能性玻璃,等三大领域。
如何制成良好的陶瓷靶材也是需要注意的地方。1.成型方法:为了减少陶瓷靶材的气孔,提高薄膜性能,要求溅射陶瓷靶材具有高密度、低气孔率、高密度意味着陶瓷体内晶粒排列紧密,在承受外界载荷或腐蚀性物质侵蚀的时候不易形成破坏性的突破点。而要得到钙质密度的陶瓷胚体,成型方法是关键。陶瓷靶材的成型一般采用干压、等静压、热压铸等方法。不同的方法具有不同的特点。2.原料粒度:原料粉粒度对陶瓷靶材形成的薄膜质量有很大的影响,只有原料足够细,烧制成品才有可能形成微结构,使他具有很好的耐磨性。粉料颗粒越细,活性也越大,可促进烧结,制成的瓷强度也越高,小颗粒还可以分散由于刚玉和玻璃相线膨胀系数不同在晶界处造成的应力集中,减少开裂的危险性,细的晶粒还能妨碍微裂纹的发展,不易在成穿晶断裂,有利于提高断裂韧性,还可以提高耐磨性。3.烧结:陶瓷的烧结,简单的讲就是陶瓷生坯在高温下的致密化过程。随着温度的上升和时间的延长,粉末颗粒之间发生粘结,烧结体的强度增加,把粉末颗粒的聚集体变为坚强的具有某种显微结构的多晶烧结体,并获得所需的物理,机械性能的制品或材料。样品的致密化速率、结构往往也反应了它经历过什么样的热处理过程。 ITO靶材的制备方法主要有4种,分别为热压法、热等静压法、常温烧结法、冷等静压法。冷等静压优势突出。辽宁AZO陶瓷靶材生产企业
在显示面板和触控屏两个产品生产环节需要使用靶材,主要用于ITO玻璃及触控屏电极,用量比较大的是ITO靶材。中国台湾智能玻璃陶瓷靶材多少钱
溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属,合金,陶瓷化合物等。中国台湾智能玻璃陶瓷靶材多少钱
江苏迪纳科精细材料股份有限公司位于南京市江宁区芳园西路10号九龙湖国际企业园创新中心A座8层,拥有一支专业的技术团队。迪纳科,迪丞,东玖,靶材是江苏迪纳科精细材料股份有限公司的主营品牌,是专业的2011年成立,一直专注于PVD磁控溅射靶材的研发、生产、销售、应用推广以及靶材回收再利用。产品涵盖陶瓷靶材、高纯金属靶材、合金靶材、贵金属靶材、等离子喷涂靶材、蒸发镀颗粒及高纯陶瓷粉末。20年专注专业,1站式靶材供应。公司,拥有自己**的技术体系。公司以用心服务为重点价值,希望通过我们的专业水平和不懈努力,将2011年成立,一直专注于PVD磁控溅射靶材的研发、生产、销售、应用推广以及靶材回收再利用。产品涵盖陶瓷靶材、高纯金属靶材、合金靶材、贵金属靶材、等离子喷涂靶材、蒸发镀颗粒及高纯陶瓷粉末。20年专注专业,1站式靶材供应。等业务进行到底。诚实、守信是对企业的经营要求,也是我们做人的基本准则。公司致力于打造***的溅射靶材,陶瓷靶材,金属靶材,等离子喷涂靶材。