晶间腐蚀,合金检测的要求不一样一般检测清洁度、晶粒大小、晶粒分布是否均匀、晶粒有无明显的堆积、是否有夹杂物等根据金相图谱检验:无过烧;分布均匀程度;晶粒大小我想也学习一下铝合金金相,各元素在显微镜下是表现什么状态。不过可以看看国标,里面只是告诉怎样判断: GB/T3246-82 铝及铝合金加工制品显微组织检验方法; GB/T3247-82 铝及铝合金加工制品低倍组织检验方法 ; GB/T10849-89 铸造铝硅合金变质; GB/T10850-89 铸造铝合金过烧;GB/T10851-89 铸造铝合金孔。电解抛光腐蚀,是钢铁,尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备。湖南电解腐蚀性价比高
晶间腐蚀常用的试验方法:硫酸-硫酸铁法适用于检验镍基合金、不锈钢因碳化物析出引起的晶间腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于钝化区。试验结果采用腐蚀率和固溶试样腐蚀率比较来评定;草酸浸蚀法主要用作检验奥氏体不锈钢晶间腐蚀的筛选试验。电解浸蚀时腐蚀电位处于过钝化区。浸蚀后用金相显微镜观察浸蚀组织分类评定;盐酸法适用于检验某些高钼镍基合金的晶间腐蚀。试验结果以腐蚀率评定;氯化钠-过氧化氢法适用于检验含铜铝合金的晶间腐蚀。试488验结果采用金相显微镜测量晶间腐蚀深度评定;氯化钠-盐酸法适用于检验铝镁合金的晶间腐蚀。试验结果的评定同上;电化学动电位再活化法(EPR法)。在特定溶液中将试样钝化后再活化,测定动电位扫描极化曲线,以再活化电量评定晶间腐蚀敏感性。此法具有快速的特点。湖南电解腐蚀性价比高电解抛光腐蚀,电源过压、过热以及市电输入过欠压保护。
低倍组织热腐蚀,故障排除
故障问题 |
故障原因 |
电源开关按下不通电 |
断路器跳闸或者电源按钮开关损坏 |
开机温度显示326.7 |
温度传感器接触不良或者损坏,需要更换传感器。 |
开机温度显示0, |
系统初始化不成功,进入隐藏控件进行初始化操作。 |
加热温度不变化 |
加热器损坏,或者导线接触不良。 |
晶间腐蚀是什么?以晶间腐蚀为起源,在应力和介质的共同作用下,可使不锈钢、铝合金等诱发晶间应力腐蚀,所以晶间腐蚀有时是应力腐蚀的先导,在通常腐蚀条件下,钝化合金组织中的晶界活性不大,但当它具有晶间腐蚀的敏感性时,晶间活性很大,即晶格粒与晶界之间存在着一定的电位差,这主要是合金在受热不当时,组织发生改变而引起的。所以晶间腐蚀是一种由组织电化学不均匀性引起的局部腐蚀蚀。此外晶界存在杂质时,在一定介质也也会引起晶间腐蚀。低倍加热腐蚀触摸屏操控显示,简单直观。
电解抛光腐蚀参考资料
试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
铜、铜一锌合金 |
水 100ml焦磷酸 580g |
1~2v |
10分 |
铜阴极 |
铜和铜基合金 |
蒸馏水:500ml,磷酸(85%)250ml乙醇(95%) 250ml |
18V |
1~5分 |
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青铜 (Sn≤9%) |
水 450ml磷酸(85%) 390ml |
1.5~12V |
1~5分 |
0.1A/ cm2 |
青铜 (Sn≤6%) |
水:330ml 硫酸 90ml磷酸(85%) 580ml |
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铝和铝一硅(<2% 合金 |
蒸馏水:140ml,酒精(95%)800ml高氯酸(60%) 60ml |
30~40v |
15~60秒 |
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铝一合金 |
甲醇(纯) 840ml甘油(丙三醇) 125ml |
50~100v |
5~60秒 |
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铝 |
甲醇(纯):950ml, 硝酸(1.40)15ml,高氯酸(60%)50ml |
30~60v |
15~60秒 |
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铝、银、镁 |
蒸馏水:200ml,磷酸(85%)400ml酒精(95%) 380ml |
25~30v |
4~6分 |
铝阴极 100~1100。F |
低倍组织热酸蚀腐蚀,紧凑的酸蚀槽,完全可与抽风柜配合使用,增加工作环境的舒适性。湖南电解腐蚀性价比高
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