晶间腐蚀涌入,主要由于晶粒表面和内部间化学成分的差异以及晶界杂质或内应力的存在。晶间腐蚀破坏晶粒间的结合,降低金属的机械强度。而且腐蚀发生后金属和合金的表面仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象,但晶粒间结合力明显减弱,力学性能恶化, 不能经受敲击,所以是一种很危险的腐蚀。通常出现于黄铜、硬铝合金和一些不锈钢、镍基合金中。不锈钢焊缝的晶间腐蚀是化学工业的一个重大问题。不锈钢在腐蚀介质作用下,在晶粒之间产生的一种腐蚀现象称为晶间腐蚀。电解抛光腐蚀,连接RS485通讯连接方式任选与计算机通讯。嘉兴低倍加热腐蚀
晶间腐蚀是什么?一种常见的局部腐蚀。腐蚀沿着金属或合金的晶粒边界或它的邻近区域发展,晶粒本身腐蚀很轻微,这种腐蚀便称为晶间腐蚀,这种腐蚀使晶粒间的结合力慢慢削弱,严重时可使机械强度完全丧失。例如遭受这种腐蚀的不锈钢,表面看起来还很光亮,但经不起轻轻敲击便破碎成细粒。由于晶间腐蚀不易检查,所以廷民设备的突然破十,它的危害性很大。不锈钢、镍基合金、铝合金、镁合金等都是晶间腐蚀敏感性高的材料。在受热情况下使用或焊接过程都会造成晶间腐蚀的问题。嘉兴低倍加热腐蚀电解抛光腐蚀,选配项:RS485连接 方式任选与计算机通讯。
电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。
电解抛光腐蚀,贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
氯化钾过饱和 过溶液 400亳升 盐酸 几滴 |
直流电电流密度0.07~0.09安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械联合抛光法, 时间2~3分钟 |
纯金的电解抛光和电解浸蚀。 |
硫脲 8~10克 硫酸 12亳升 乙酸 40亳升 |
直流电: 10~15伏 温度: 常温 时间: 10~60秒 |
金基合金的电解浸蚀。
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硫代硫酸钠 20克 水 400亳升 |
直流电:0.8~1安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械抛光法,时间0.5~1.5分钟 |
银及其合金的电解抛光。调节电流密度可用于银基合金的电解浸蚀 |
电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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混合酸水溶液: 磷酸 90亳升 硝酸 8亳升 水 2亳升 |
使用冰溶液。 |
适用于抛光和浸蚀Fe—A1合金(A1含量至16%) |
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硝酸水溶液: 硝酸 50亳升 水 50亳升 |
室温,使用电压1.5伏,2分钟使用通风橱 |
显示奥氏体或铁素体不锈钢的晶界。 |
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盐酸酒精溶液: 盐酸 10亳升 无水酒精 90亳升 |
10~30秒 电压6伏 |
显示σ铁和铬钢及CrNi钢的一组织。 |
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硫酸水溶液: 硫酸 5亳升 水 95亳升 |
室温,使用电压, 电流密度0.1~0.5安/厘米2,浸蚀时间5~15秒。 |
适用于Fe-Cr-Ni合金。 |
电解抛光腐蚀,电压电流调节、显示精度小数点后两位。嘉兴低倍加热腐蚀
电解抛光腐蚀电解浸蚀参考资料
试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
钢 |
苦味酸2g 蒸馏水100ml 氢氧化钠25g |
6V 24。C |
30秒 |
不锈钢 |
低合金钢 染色碳化物 |
钢 |
铬酸(10%) |
3V 24。C |
可变 |
不锈钢 |
奥氏体或铁素体不锈钢,浸蚀碳化物和υ相 |
钢 |
草酸(10%) |
3V 24。C |
可变 |
不锈钢 |
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钢 |
硝酸/甘油/盐酸 =1:1:8 |
3~6V 24。C |
10秒 |
不锈钢 |
不锈钢,浸蚀奥氏体。 |
钢 |
水/硝酸(1.4)=1:1 |
1.5V 24。C |
≤2分 |
不锈钢 |
奥氏体、铁素体不锈钢浸蚀晶界 |
钢 |
硫酸(1.84)/水=1:19 |
6V 0.1~0.5A 24。C |
5~15秒 |
不锈钢 |
铁—铬—镍合金 |
钢 |
过硫酸铵10~100g/1升水 |
1.5~2V 24。C |
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不锈钢 |
υ相和碳化物相染色 |
铝 |
正磷酸 210份 蒸馏水 65份烷基乙醇 45份 |
0.75~1.2A/cm2 24。C |
1.5~2.5分 |
不锈钢 |
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