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镇江口碑好四氟化碳高性价比的选择

来源: 发布时间:2022年08月27日

    CF4具有高的稳定性,属于完全不燃性气体,常温下不与酸、碱及氧化剂反应,900℃以下不与Cu、Ni、W、Mo等过渡金属反应,1000℃不与碳、氢及CH4反应。室温下可与液氨-金属钠试剂反应,高温下CF4可与碱金属、碱土金属及SiO2反应,生成相应的氟化物。CF4在800℃下开始分解,CF4在电弧作用下可与CO和CO2反应生成COF2,有人还试图在碳弧温度中使CF4聚合来合成其他碳氟化合物。由于C-F键的化学稳定性极强,因此以CF4为表示的全氟烃可认为是无毒的。CF4、C2F6和C3F8的全球变暖势(GWP)的下限值分别为620、190和53,呈明显下降趋势,且远小于氯氟烃(CFC)、SF6和CO2。 四氟化碳也可作为低温制冷剂、低温绝缘介质。镇江口碑好四氟化碳高性价比的选择

    四氟化碳与氧在高温下不反应]四氟化炭是目前微电子行业使用比较多的等离子蚀刻气体,它是由高纯气与高纯气配高纯氧的混合物,可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料的蚀刻。在使用CF4-H2反应离子刻蚀的硅及二氧化硅系统中,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这对刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概览危险类别::吸入健康危险:吸入浓度高的四氟化碳后,出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。 节能四氟化碳厂家供货四氟化碳无毒、不燃。高浓度时有麻醉作用。

四氟甲烷(Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane),亦称四氟化碳、全氟化碳,PFC-14(R-14),化学式CF4,商品名称Reflube 14,相对分子量88.00。在常温下,四氟甲烷是无色、无臭、不燃,不溶于水的可压缩性气体。沸点-128℃,熔点-183.6℃。液体密度(-130℃)1.613g/cm3,临界温度-45.67℃,临界压力3.74MPa,蒸气压(-150.7℃)13.33kPa,介电常数(25℃,0.5MPa)1.0006。挥发性较高,是稳定的有机化合物之一,在900摄氏度时,不与钢、镍、钨、钼反应,在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25摄氏度及0.1MPa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时, 会分解产生有毒氟化物,危险性类别为第2.2类不燃气体。

高纯四氟化碳和六氟化硫产品满足重大专项/课题任务书研究内容和考核指标规定的技术要求。项目的验收完成,标志着黎明院开发的高纯度含氟电子气体四氟化碳和六氟化硫产品,能够满足极大规模集成电路行业所需的高纯度气体需求,也标志着极大规模集成电路行业用高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体实现了国产化。高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体是极大规模集成电路行业必须的清洗、蚀刻气体。随着极大规模集成电路技术的提升,芯片制程向14纳米甚至7纳米的迈进,其对电子气体的纯度要求越来越高。为此,黎明院借助科技重大专项平台,突破产物合成、精制提纯、杂物分析、洁净充装等关键技术,攻克了高纯度四氟化碳和六氟化硫制备过程中微量杂质的纯化、分析等技术难题,制备出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫,部分杂质含量在0.1ppm以内。在研发过程中,并建成了标准化洁净间。


四氟化碳可用于金属冶炼。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体,广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格,各国为推动本国微电子工业发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体场,因此具有广阔的发展潜力。四氟化碳具有高稳定性,属于完全不燃气体,常温下不与酸、碱及氧化剂反应。江浙沪直销四氟化碳质量代理商

四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体,充装于四氟化碳钢瓶中,饱和蒸汽压约压力2000 psig。镇江口碑好四氟化碳高性价比的选择

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