浙江高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写

Nanoscribe带领全球高精度微纳米3D打印 。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商，拥有多项**技术，为全球客户提供整套硬件，软件，打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商，拥有多项专项技术，为全球客户提供整套硬件，软件，打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点，结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料，开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构，适用于生命科学领域的应用，如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状：晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。Photonic Professional GT2 结合了设计的灵活性和操控的简洁性，以及非常广的材料-基板选择。因此，它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备，适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中，超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的特别好证明。了解双光子灰度光刻敬请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。浙江高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写

传感器对可控技术的重要性，在众多领域都是显而易见的，无论是从简单的家用电器，还是到可穿戴设备，甚至到航空应用，只有控制良好的流程才有被优化的可能。理想的传感器应该具有高敏感度，不易故障，并且易于集成到流程中等优点。光纤端面的微型传感器在这个方面具有巨大的潜力。这些传感器空间占有率小，可以轻松多路复用，并且不需要额外的外部能源供应。对于这些基于光纤的传感器的加工，双光子聚合技术已被证明是其完美的搭档。事实上，任何设计模型都能在微观尺寸上被实现。然而，大多数设计都是静态的，打印出来的部件在被加工出来后不能进行进一步的活动。浙江高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写双光子灰度光刻技术多强大，如需了解详情请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。

2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换，物镜和样品夹持器识别会自动运行。多层衍射光学元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成，从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示，折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力，可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列，以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状，如球面和非球面透镜。

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。另外，还可以实现精度上限的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以非常普遍的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。欢迎咨询纳糯三维科技（上海）有限公司Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司带您了解目前灰度光刻的发展。

该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。Quantum X shape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。全新Quantum X shape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统Quantum X产品系列的第二台设备，可实现在25 cm²面积内打印任何结构，很大程度推动了生命科学，微流体，材料工程学中复杂应用的快速原型制作。Quantum X shape作为具备光敏树脂自动分配功能的直立式打印系统，非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。关于双光子聚合（2PP）和双光子灰度光刻（2GL ®）的问题，咨询请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。浙江高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写

微纳3D打印和灰度光刻技术有什么区别？浙江高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写

Nanoscribe称QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换，物镜和样品夹持器识别会自动运行。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业，并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。浙江高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写

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