江苏进口无掩膜光刻3D微纳加工

为了探索待测物微纳米表面形貌，探针扫描成像技术一直是理论研究和实验项目。然而，由于扫描探针受限于传统加工工艺，在组成材料和几何构造等方面在过去几十年中没有明显的研究进展，这也限制了基于力传感反馈的测量性能。如何减少甚至避免因此带来的柔软样品表面的形变，以实现对原始表面的精确成像一直是一个重要议题。Nanoscribe公司的系列产品是基于双光子聚合原理的高精度微纳3D打印系统，双光子聚合技术是实现微纳尺度3D打印有效的技术，其打印物体的特别小特征尺寸可达亚微米级，并可达到光学质量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状：晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。PhotonicProfessionalGT2结合了设计的灵活性和操控的简洁性，以及普遍的材料-基板选择。因此，它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备，适用于多用户共享平台和研究实验室。无掩膜光刻技术的更多信息，请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。江苏进口无掩膜光刻3D微纳加工

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。总而言之，该系统拓宽了3D微纳加工在多个科研领域和工业行业应用的更多可能性（如生命科学、材料工程、微流体、微纳光学、微机械和微电子机械系统（MEMS）等）。江苏进口无掩膜光刻3D微纳加工Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨双光子无掩模光刻技术。

全新的NanoscribeQuantumX系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。全球较早双光子灰度光刻(2GL®)系统将具有出色性能的灰度光刻与Nanoscribe精确灵动的双光子聚合技术结合起来。QuantumX提供了完全的设计自由度、高速的打印效率、以及增材制造复杂结构超光滑表面所需的高精度。快速、准确的增材制造工艺极大地缩短了设计迭代周期，实现了低成本的微纳加工。凭借着独有的产品优势Nanoscribe新发布的QuantumX在2019慕尼黑光博会展（LASERWorldofPhotonics2019）荣获创新奖。

Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优先领导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。Quantum X 新型超高速无掩模光刻系统的技术中心是Nanoscribe特别研发的双光子灰度光刻技术（2GL®）。

世界上头一台双光子灰度光刻（2GL®）系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合，从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制，自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点，您可以进行几乎任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。Nanoscribe中国分公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨无掩膜光刻系统及技术的发展前景。江苏进口无掩膜光刻3D微纳加工

Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司带您了解无掩膜光刻技术相关信息。江苏进口无掩膜光刻3D微纳加工

QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具，可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品，QuantumXshape提升了3D微纳加工能力，即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造，以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之，工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺，适用于晶圆级批量加工。作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。江苏进口无掩膜光刻3D微纳加工