山东工业级增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介绍了高精度3D打印，并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。根据ASTM标准 ,增材制造又称为3D打印或快速成型。山东工业级增材制造无掩膜光刻

人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计，甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe公司专注于微观3D打印技术，通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的QuantumX平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。广东增材制造微纳加工系统Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨3D打印和增材制造原理。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高

一般通俗地称增材制造为3D打印，而事实上3D打印只是增材制造工艺的一种，它不是准确的技术名称。增材制造指通过离散-堆积使材料逐点逐层累积叠加形成三维实体的技术。根据它的特点又称增材制造，快速成形，任意成型等。增材制造通过降低模具成本，减少材料，减少装配，减少研发周期等优势来降低企业制造成本，提高生产效益。具体优势如下：与传统的大规模生产方式相比，小批量定制产品在经济上具有吸引力；直接从3DCAD模型生产意味着不需要工具和模具，没有转换成本；以数字文件的形式进行设计方便共享，方便组件和产品的修改和定制；该工艺的可加性使材料得以节约，同时还能重复利用未在制造过程中使用的废料(如粉末、树脂)(金属粉末的可回收性估计在95-98%之间)；新颖、复杂的结构，如自由形式的封闭结构和通道，是可以实现的，使得部件的孔隙率非常低；订货减少了库存风险，没有未售出的成品，同时也改善了收入流，因为货物是在生产前支付的；分销允许本地消费者/客户和生产者之间的直接交互。如需了解增材制造的信息，请咨询咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司。

相较于传统生产方式，增材制造能有效降低生产成本与进入门槛。举例来说，制造业应用广的CNC数控机床加工在全球范围内存在人才短缺问题，且其必备的专业操作人员是沉重的人力成本来源，这也是中小型生产厂家难以与规模较大的竞争对手匹敌的重要原因。与之形成对比的增材制造技术，对于专业操作人员的要求则不那么高，因为增材设备更加简单、编程相对容易，也因此长期来说操作成本更低。此外，增材制造突破生产的地域限制，您可以在瑞士进行编程设计后，发到国内或其他地区生产，而这在需要诸多工装夹具的传统制造领域是难以实现的。传统制造中更换加工零件既耗时又费力。举例而言，CNC数控机床经常需要花费数十分钟到几个小时才能完成零件的替换。而增材制造可以一次成型多个产品，不同制造作业间可真正达到无缝替换，而每次替换的时间至多可缩短到几分钟内。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司带您一起了解增材制造与传统制造对比的区别。广东微纳米增材制造三维光刻

Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您简述增材制造技术的应用。山东工业级增材制造无掩膜光刻

随着各行各业的发展及科技的进步，人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体，可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计，甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe公司专注于微观3D打印技术，通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的QuantumX平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。山东工业级增材制造无掩膜光刻