微纳光刻3D打印工艺

由欧盟委员会及欧盟“地平线2020“计划（Horizon2020）资助的HandheldOCT项目于2020年初正式启动。祝贺Nanoscribe成为该项目成员之一。这个由多所大学，研究机构以及公司的科学家们和工程师们所组成的联合项目致力于开发一种用于眼科检查的便携式可移动成像设备。基于低成本和小型化特点的集成光子芯片技术，该项目有望将光学相干断层扫描（OCT）从局限的眼科临床应用带入更广的眼科护理移动应用中来。由维也纳医科大学牵头的HandheldOCT研究项目旨在运用成熟的光学相干断层扫描成像技术（OCT），来实现便携式现场即时眼科护理检查。基于微纳尺度的3D打印技术，可定制设计光学性能优异、超高精度、超薄尺度的透镜。微纳光刻3D打印工艺

这种集成复杂3D结构于传统平面微流控芯片的全新方式为微纳加工制造打开了新的大门。布鲁塞尔自由大学的光子学研究小组（B-PHOT）的科学家们正在通过使用Nanoscribe双光子聚合技术（2PP）将光波导漏斗3D打印到光纤末端上来攻克将具有不同模场几何形状的两个元件之间的光束进行高效和稳健耦合这个难题。这些锥形光束漏斗可调整SMF的模式场，以匹配光子芯片上光波导模式场。Nanoscribe的2PP技术将可调整模场的锥形体作为阶跃折射率光波导光束。浙江高分辨率3D打印激光直写Nanoscribe是微纳加工和3D打印领域的带领者。

为了进一步提升技术先进性，科研人员又在新材料研发的过程中发现了巨大的潜力。一方面，利用SCRIBE新技术的情况下，高折射率的光刻胶可进一步拓展对打印结构的光学性能的调节度。另一方面，低自发荧光的可打印材料非常适用于生物成像领域。Nanoscribe公司的IP系列光刻胶，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自发荧光的IP-Visio已经为接下来的研究提供了进一步的可能。为了证明SCRIBE新技术的巨大潜力，科研人员打印了众多令人瞩目的光学组件，例如已经提到的龙勃透镜。此外科研人员还打印了消色差双合透镜（如图示）。通过色散透镜聚焦的光因波长不同焦点位置也不尽相同。通过组合不同折射率的透镜可帮助降低透镜的色差。在给出的例子中，成像中的荧光强度和折射率高度相关，同时将打印的双透镜中的每个单独透镜可视化

多年来，Nanoscribe在微观和纳米领域一直非常出色，并且参与了很多3D打印的项目，包括等离子体技术、微光学等工业微加工相关项目。如今，Nanoscribe正在与美因兹大学和帕德博恩大学在内的其他行业带领机构一起开发频率和功率稳定的小型二极管激光器。该团队的项目为期三年，名为Miliquant，由德国联邦教育和研究部（简称BMBF）提供资助。他们的研发成果——3D打印光源组件，将用于量子技术创新，并可以应用在医疗诊断、自动驾驶和细胞红外显微镜成像之中。研发团队将开展多项实验，开发工业传感器和成像系统，这就需要复杂的研发工作，还需要开发可靠的组件，以及组装和制造的新方法3D打印技术，种类繁多复杂，如果需要了解更多请咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。

我们的3D打印技术采用了先进的增材制造方法，能够将数字模型转化为实体产品。相比传统的制造方法，这项技术具有许多优势。首先，它能够实现高度定制化，根据客户的需求精确打印出复杂的结构和形状。其次，由于材料的精确控制和优化设计，产品的质量和性能得到了明显提升。此外，这项技术还能够减少废料和能源的浪费，对环境友好。我们的3D打印技术广泛应用于各个行业，包括航空航天、汽车制造、医疗器械等。在航空航天领域，我们的技术可以制造出轻量化的零部件，提高飞机的燃油效率和性能。在汽车制造领域，我们的技术可以生产出复杂的汽车零部件，提高汽车的安全性和舒适性。在医疗器械领域，我们的技术可以制造出个性化的假肢和植入物，提高患者的生活质量。我们公司一直致力于技术创新和产品质量的提升。通过引入这项**的3D打印技术，我们将进一步巩固我们在行业中的**地位。我们相信，这项技术的推出将为我们的客户带来更多的商机和竞争优势。如果您对我们的3D打印技术感兴趣或有任何疑问，请随时与我们联系。我们的团队将竭诚为您提供专业的解答和支持。让我们一起开创未来，共同推动行业的发展！高分辨率的3D打印技术可以生产出比传统制造工艺更小、更精确的零件。山东微纳米3D打印多少钱

短期看，3D打印是传统制造的补充，而不是替代。微纳光刻3D打印工艺

作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作，即一步打印多级衍射光学元件，并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。欢迎咨询微纳光刻3D打印工艺