随着社会不断的发展，我们智能能设备的进化日新月异，人们已经越来越追求个性化。愈发复杂的形状意味着，对点胶设备提出更高的要求，需要应对更高的点胶精度!更灵活的点胶角度!目前手机中板和屏幕模组贴合时，需要在中板上面点一圈透明的UV胶，这种胶由于白色反光的原因，只能使用光谱共焦传感器进行完美测量，由于光谱共焦传感器的复合光特性，可以完美的高速测量胶水的高度和宽度。由于胶水自身特性：液体，成型特性：带有弧形，材料特性：透明或半透明。光谱共焦技术可以测量位移，利用返回光谱的峰值波长位置。国内光谱共焦厂家
光谱共焦位移传感器原理，由光源、透镜组、控制箱等组成。光源发出1束白光，透镜组先将白光发散成一系列波长不同的单色光，然后经同轴聚焦在一定范围内形成1个连续的焦点组，每个焦点的单色光波长对应1个轴向位置。当样品处于焦点范围内时，样品表面将聚焦后的光反射回去。这些反射回来的光经过与镜头组焦距相同的聚焦镜再次聚焦后通过狭缝进入控制箱中的单色仪。因此，只有焦点位置正好处于样品表面的单色光才能聚焦在狭缝上。单色仪将该波长的光分离出来，由控制箱中的光电组件识别并 得到样品的轴向位置。采用高数值孔径的聚焦镜头可以使传感器达到较高分辨率，满足薄膜厚度分布测量要求。新型光谱共焦常用解决方案光谱共焦位移传感器可以实现对材料的变形过程进行实时监测，对于研究材料的力学行为具有重要意义。
光谱共焦测量技术由于其具有测量精度高、测量速度快、可以实现非接触测量的独特优势而被大量应用于工业级测量。让我们先来看一下光谱共焦技术的起源和光谱共焦技术在精密几何量计量测试中的成熟典型应用。共焦显微术的概念首先是由美国的 Minsky 于 1955年提出, 其利用共焦原理搭建台共焦显微镜, 并于1957年申请了专利。自20世纪90年代, 随着计算机技术的飞速发展, 共焦显微术成了研究的热点，得到快速的发展。光谱共焦技术是在共焦显微术基础上发展而来,其无需轴向扫描, 直接由波长对应轴向距离信息, 从而大幅提高测量速度。 而基于光谱共焦技术的传感器是近年来出现的一种高精度、 非接触式的新型传感器, 目前精度上可达nm量级。 共焦测量术由于其高精度、允许被测表面有更大的倾斜角、测量速度快、实时性高、对被测表面状况要求低、以及高分辨率的独特优势，迅速成为工业测量的热门传感器，在生物医学、材料科学、半导体制造、 表面工程研究、 精密测量等领域得到大量应用。
表面粗糙度测量方法具体流程如下:(1)待测工件定位。将待测工件平稳置于坐标测量机测量平台上，调用标准红宝石测针测量其空间位置和姿态，为按测量工艺要求确定测量位置提供数据。(2)轮廓扫描。测量机测量臂更换挂载光谱共焦传感器的光学探头，驱动探头运动至工件测量位置，调整光源光强、光谱仪曝光时间和采集频率等参数以保证传感器处于较好的工作状态，编辑扫描步距、速度等运动参数后启动轮廓扫描测量，并在上位机上同步记录扫描过程中的横向坐标和传感器高度信息，映射成为测量区域的二维微观轮廓。(3)表面粗糙度计算与评价。将扫描获取的二维微观轮廓数据输入到轮廓处理算法内进行计算，按照有关国际标准选择合适的截止波长，按高斯轮廓滤波方法对原始轮廓进行滤波处理，得到其表面粗糙度轮廓，并计算出粗糙度轮廓的评价中线，再按照表面粗糙度的相关评价指标的计算方法得出测量结果，得到被测工件的表面粗糙度信息。光谱共焦技术可以对材料表面和内部进行非接触式的检测和分析。
光谱共焦技术将轴向距离与波长建立起一套编码规则，是一种高精度、非接触的光学测量技术。基于光谱共焦技术的传感器作为一种亚微米级、快速精确测量的传感器，已经被大量应用于表面微观形状、厚度测量、位移测量、在线监控及过程控制等工业测量领域。展望其未来，随着光谱共焦传感技术的发展，必将在微电子、线宽测量、纳米测试、超精密几何量计量测试等领域得到更多的应用。光谱共焦技术是在共焦显微术基础上发展而来，其无需轴向扫描，直接由波长对应轴向距离信息，从而大幅提高测量速度。光谱共焦技术可以在环境保护中发挥重要作用。奉贤区光谱共焦设备生产
光谱共焦厚度检测系统可以实现厚度的非接触式测量。国内光谱共焦厂家
光谱共焦传感器可以用于数码相机的相位测距，可大幅提高相机的对焦精度和成像质量。同时，还可以通过检测相机的微小振动，实现图像的防抖和抗震功能。光谱共焦传感器可以用于计算机硬盘的位移和振动测量，从而实现对硬盘存储数据的稳定性和可靠性的实时监控。在硬盘的生产过程中，光谱共焦传感器也可用于进行各种机械结构件的位移、振动和形变测试。光谱共焦传感器在3C电子行业中的应用领域极其大量，可用于各种控制和检测环节，实现高精度、高可靠性的测量与检测。国内光谱共焦厂家