靶丸内表面轮廓是激光核聚变靶丸关键参数之一，需要进行精密检测。本文基于白光共焦光谱和精密气浮轴系，分析了靶丸内表面轮廓测量的基本原理，并建立了相应的白光共焦光谱测量方法。同时，作者还搭建了靶丸内表面轮廓测量实验装置，并利用靶丸光学图像的辅助调心方法，实现了靶丸内表面低阶轮廓的精密测量，获得了准确的靶丸内表面轮廓曲线。作者在实验中验证了测量结果的可靠性，并进行了不确定度分析，结果表明，白光共焦光谱能够实现靶丸内表面低阶轮廓的精密测量 。光谱共焦技术的发展将有助于解决现实生产和生活中的问题。原装光谱共焦测厚度
随着社会的发展，智能设备不断进化，人们对个性化的追求日益增加。复杂的形状意味着对点胶设备提出更高的精度和灵活性要求。当前在手机中板和屏幕模组贴合时，需要在中板上面点一圈透明的UV胶，由于其白色反光特性 ，只能使用光谱共焦传感器进行完美测量。光谱共焦传感器的复合光特性可以完美高速地测量胶水的高度和宽度。由于胶水自身特性是液体，成型特性是弧形，材料特性是透明或半透明。因此，采用光谱共焦传感器是当前解决高精度点胶需求的好方案之一，它具有非常高的分辨率和测量精度，并同时能够应对形状的复杂性和材料特性的多样性，能够满足各种行业的高精度测量要求。原装光谱共焦测厚度国内外已经有很多光谱共焦技术的研究成果发表；
高像素传感器设计方案取决于的光对焦水平，要求严格图象室内空间NA的眼镜片。另一方面，光谱共焦位移传感器的屏幕分辨率通常采用光谱抗压强度的全半宽来精确测量。高NA能够降低半宽，提高分辨率。因而，在设计超色差摄像镜头时，NA应尽可能高的。高图象室内空间NA能提高传感器系统的灯源使用率，使待测表层轮廊以比较大视角或一定方向歪斜。可是，NA的提高也会导致球差扩大，并产生电子光学设计优化难度。传感器检测范围主要是由超色差镜片的纵向色差确定。因为光谱仪在各个波长的像素一致，假如纵向色差与波长之间存在离散系统，这类离散系统也会导致感应器在各个波长的像素或敏感度存在较大差别，危害传感器特性。纵向色差与波长的线性相关选用线形相关系数来精确测量，必须接近1。一般有两种方法能够形成充足强的色差：运用玻璃的当然散射;应用衍射光学元器件(DOE)。除开生产制造难度高、成本相对高外，当能见光根据时 ，透射耗损也非常高。
由于每一个波长都可以固定一个距离值，因此，通过将光谱山线峰值波长确定下来，就可以将精确的距离值推算出来。假设传感器与物体表面存在相对移动，此时物体表面的中心点恰好处在单色光（A1）的像点处，可以作出光谱仪探测到的光谱曲线。通过测量得到不同的波长值，可以将物体表面不同点之间的相对位移值计算出来。如果配上精细的扫描机构，就可以对整体的二维表面轮廓及形貌进行精确的测量。相比其他传统的位移传感器 ，光谱共焦传感器凭借独特的测量原理，具有测量效率高、精度高、体积小、非接触等特点，在各个领域都得到了大量的应用。光谱共焦技术可以在医学诊断中发挥重要作用。
高精度光谱共焦位移传感器具有非常高的测量精度 。它能够实现纳米级的位移测量，对于晶圆表面微小变化的检测具有极大的优势。在半导体行业中，晶圆的表面质量对于芯片的制造具有至关重要的影响，因此需要一种能够jing'q精确测量晶圆表面位移的传感器来保证芯片的质量。其次，高精度光谱共焦位移传感器具有较高的测量速度。它能够迅速地对晶圆表面进行扫描和测量，极大地提高了生产效率。在晶圆制造过程中，时间就是金钱，因此能够准确地测量晶圆表面位移对于生产效率的提高具有重要意义。另外，高精度光谱共焦位移传感器具有较强的抗干扰能力。它能够在复杂的环境下进行稳定的测量，不受外界干扰的影响。在半导体制造厂房中，存在各种各样的干扰源，如电磁干扰、光学干扰等，而高精度光谱共焦位移传感器能够抵御这些干扰，保证测量的准确性和稳定性 。光谱共焦技术的应用将有助于推动中国科技创新的发展。怎样选择光谱共焦的原理
光谱共焦透镜组设计和性能优化是光谱共焦技术研究的重要内容之一；原装光谱共焦测厚度
光谱共焦测量技术是共焦原理和编码技术的融合。一个完整的相对高度范畴能够通过使用白光灯灯源照明灯具和光谱仪完成精确测量。光谱共焦位移传感器的精确测量原理如下图1所显示，灯源发出光经过光纤，再通过超色差镜片，超色差镜片能够聚焦在直线光轴上，产生一系列可见光聚焦点。这种可见光聚焦点是连续的，不重合的。当待测物放置检测范围内时，只有一种光波长能够聚焦在待测物表层并反射面，依据激光光路的可逆回到光谱仪，产生波峰焊。全部别的波长也将失去焦点。运用单频干涉仪的校准信息计算待测物体的部位，创建光谱峰处波长偏移的编号。该超色差镜片通过提升，具备比较大的纵向色差，用以在径向分离出来电子光学信号的光谱成份。因而，超色差镜片是传感器关键部件，其设计方案十分重要 。原装光谱共焦测厚度