为了满足全天候观察的需求,设计了波段范围为可见光-短波红外宽光谱共焦光学成像系统。根据宽光谱共焦原理以及光学被动式无热化原理，设计了一个波段范围为0.4μm~2.5μm、焦距数为50 mm，F数为2.8的光学成像系统，该系统在可见光波段在奈奎斯特频率为30 lp/mm时传函值高于0.7，红外波段在奈奎斯特频率为30 lp/mm时传函值高于0.5，探测器选用为15μm×15μm、像元数为640 pixel×512 pixel碲镉汞探测器。该宽光谱共焦型光学系统均采用普通玻璃材料以及易加工的球面透镜,在温度范围-40℃~+60℃内对光学系统消热差,实现了无需调焦即可满足昼夜观察的使用需求,可广泛应用于安防监控、森林防火等领域。光谱共焦透镜组设计和性能优化是光谱共焦技术研究的重要内容之一；点光谱共焦供应
该研究主要针对光谱共焦传感器在校准时产生的误差进行了研究。研究者使用激光干涉仪和高精度测长机分别对光谱共焦传感器进行了测量，并使用球面测头来保证光谱共焦传感器的光路位于测头中心，以确保安装精度。然后更换平面侧头进行校准，并利用小二乘法对测量数据进行处理，得出测量数据的非线性误差。研究结果表明：高精度测长机校准时的非线性误差为0.030%，激光干涉仪校准时的分析线性误差为0.038%。利用小二乘法处理数据及计算非线性误差，可以减小校准时产生的同轴度误差和光谱共焦传感器的系统误差，提高对光谱共焦传感器的校准精度。光谱共焦价格光谱共焦位移传感器在微机电系统、生物医学、材料科学等领域中有着广泛的应用。
这篇文章介绍了一种具有1毫米纵向色差的超色差摄像镜头，它具有0.4436的图像室内空间NA和0.991的线性相关系数R²，其构造达到了原始设计要求并显示出了良好的光学性能。实现线性散射需要考虑一些关键条件，并可以采用不同的优化方法来改进设计。首先，线性散射的实现需要确保摄像镜头的各种光谱成分具有相同的焦点位置，以减少色差。为了实现这个要求，需要采用精确的光学元件制造和装配，确保不同波长的光线汇聚到同一焦点。同时，特殊的透镜设计和涂层技术也可以减小纵向色差。在优化设计方面，可以采用非球面透镜或使用折射率不同的材料组合来提高图像质量。此外，改进透镜的曲率半径、增加光圈叶片数量和设计更复杂的光学系统也可以进一步提高性能。总的来说，这项研究强调了高线性纵向色差和高图像室内空间NA在超色差摄像镜头设计中的重要性。这种设计方案展示了光学工程的进步，表明光谱共焦位移传感器的商品化生产将朝着高线性纵向色差和高图像室内空间NA的方向发展，从而提供更加精确和高性能的成像设备，满足不同领域的需求。
因为共焦测量方法具有高精度的三维成像能力，所以它已被用于表面轮廓和三维结构的精密测量。本文分析了白光共焦光谱的基本原理，建立了透明靶丸内表面圆周轮廓测量校准模型，并基于白光共焦光谱和精密旋转轴系，开发了透明靶丸内、外表面圆周轮廓的纳米级精度测量系统和靶丸圆心精密位置确定方法。使用白光共焦光谱测量靶丸壳层内表面轮廓数据时，其测量精度受到多个因素的影响，如白光共焦光谱传感器光线的入射角、靶丸壳层厚度、壳层材料折射率和靶丸内外表面轮廓的直接测量数据。光谱共焦技术有着较大的应用前景；
随着机械加工水平的进步，各种的微小的复杂工件都需要进行精密尺寸测量与轮廓测量，例如：小工件内壁沟槽尺寸、小圆倒角等的测量，对于某些精密光学元件可以进行非接触的轮廓形貌测量，避免在接触测量时划伤光学表面，解决了传统传感器很难解决的测量难题。一些精密光学元件也需要进行非接触的轮廓形貌测量，以避免接触测量时划伤光学表面。这些用传统传感器难以解决的测量难题，均可用光谱共焦传感器搭建测量系统以解决。通过自行塔建的二维纳米测量定位装置，选用光谱其焦传感器作为测头，实现测量超精密零件的二维尺寸，滚针对涡轮盘轮廓度检测的问题，利用光谱共焦式位移传感器使得涡轮盘轮廓度在线检测系统的设计能够得以实现。与此同时，在进行几何量的整体测量过程中，还需要采取多种不同的方式对其结构体系进行优化。从而让几何尺寸的测量更为准确。光谱共焦位移传感器可以实现对不同材料的位移测量，包括金属、陶瓷、塑料等；非接触式光谱共焦精度
光谱共焦技术的研究对于相关行业的发展具有重要意义；点光谱共焦供应
高精度光谱共焦位移传感器具有非常高的测量精度。它能够实现纳米级的位移测量，对于晶圆表面微小变化的检测具有极大的优势。在半导体行业中，晶圆的表面质量对于芯片的制造具有至关重要的影响，因此需要一种能够jing'q精确测量晶圆表面位移的传感器来保证芯片的质量。其次，高精度光谱共焦位移传感器具有较高的测量速度。它能够迅速地对晶圆表面进行扫描和测量，极大地提高了生产效率。在晶圆制造过程中，时间就是金钱，因此能够准确地测量晶圆表面位移对于生产效率的提高具有重要意义。另外，高精度光谱共焦位移传感器具有较强的抗干扰能力。它能够在复杂的环境下进行稳定的测量，不受外界干扰的影响。在半导体制造厂房中，存在各种各样的干扰源，如电磁干扰、光学干扰等，而高精度光谱共焦位移传感器能够抵御这些干扰，保证测量的准确性和稳定性。点光谱共焦供应