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高速膜厚仪的用途和特点

来源: 发布时间:2024年02月06日

膜厚仪是一种可以用于精确测量光学薄膜厚度的仪器,是光学薄膜制备和表征中不可或缺的工具。在光学薄膜领域,薄膜的厚度直接影响到薄膜的光学性能和应用效果。因此,准确测量薄膜厚度对于研究和生产具有重要意义。膜厚仪测量光学薄膜的具体方法通常包括以下几个步骤:样品准备:首先需要准备待测薄膜样品,通常是将薄膜沉积在基片上,确保样品表面平整干净,无杂质和损伤。仪器校准:在进行测量之前,需要对膜厚仪进行校准,确保仪器的准确性和稳定性。校准过程通常包括使用标准样品进行比对,调整仪器参数。测量操作:将样品放置在膜厚仪的测量台上,调节仪器参数,如波长、入射角等,然后启动测量程序。膜厚仪会通过光学干涉原理测量样品表面反射的光线,从而得到薄膜的厚度信息。数据分析:膜厚仪通常会输出一系列的数据,包括薄膜的厚度、折射率等信息。对于这些数据,需要进行进一步的分析和处理,以确保测量结果的准确性和可靠性。膜厚仪测量光学薄膜的具体方法需要注意的一些关键点包括:样品表面的处理对测量结果有重要影响,因此在进行测量之前需要确保样品表面的平整和清洁膜厚仪的干涉测量能力较高,可以提供精确和可信的膜层厚度测量结果。高速膜厚仪的用途和特点

高速膜厚仪的用途和特点,膜厚仪

由于不同性质和形态的薄膜对系统的测量量程和精度的需求不尽相同,因而多种测量方法各有优劣,难以一概而论。,按照薄膜厚度的增加,适用的测量方式分别为分光光度法、椭圆偏振法、共聚焦法和干涉法。对于小于1μm的较薄薄膜,白光干涉轮廓仪的测量精度较低,分光光度法和椭圆偏振法较适合。而对于小于200nm的薄膜,由于透过率曲线缺少峰谷值,椭圆偏振法结果更加可靠。基于白光干涉原理的光学薄膜厚度测量方案目前主要集中于测量透明或者半透明薄膜,通过使用不同的解调技术处理白光干涉的图样,得到待测薄膜厚度。本章在详细研究白光干涉测量技术的常用解调方案、解调原理及其局限性的基础上,分析得到了常用的基于两个相邻干涉峰的白光干涉解调方案不适用于极短光程差测量的结论。在此基础上,我们提出了基于干涉光谱单峰值波长移动的白光干涉测量解调技术。光干涉膜厚仪推荐白光干涉膜厚仪的应用非常广,特别是在半导体、光学、电子和化学等领域。

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本文主要以半导体锗和贵金属金两种材料为对象,研究了白光干涉法、表面等离子体共振法和外差干涉法实现纳米级薄膜厚度准确测量的可行性。由于不同材料薄膜的特性不同,所适用的测量方法也不同。半导体锗膜具有折射率高,在通信波段(1550nm附近)不透明的特点,选择采用白光干涉的测量方法;而厚度更薄的金膜的折射率为复数,且能激发明显的表面等离子体效应,因而可借助基于表面等离子体共振的测量方法;为了进一步改善测量的精度,论文还研究了外差干涉测量法,通过引入高精度的相位解调手段,检测P光与S光之间的相位差提升厚度测量的精度。

极值法求解过程计算简单,速度快,同时能确定薄膜的多个光学常数并解决多值性问题,测试范围广,但没有考虑薄膜均匀性和基底色散的因素,因此精度不够高。此外,由于受曲线拟合精度的限制,该方法对膜厚的测量范围有要求,通常用于测量薄膜厚度大于200纳米且小于10微米的情况,以确保光谱信号中的干涉波峰数适当。全光谱拟合法是基于客观条件或基本常识来设置每个拟合参数上限、下限,并为该区域的薄膜生成一组或多组光学参数及厚度的初始值,引入适合的色散模型,再通过麦克斯韦方程组的推导得到结果。该方法能判断预设的初始值是否为要测量的薄膜参数,建立评价函数来计算透过率/反射率与实际值之间的偏差。只有当计算出的透过率/反射率与实际值之间的偏差很小时,我们才能认为预设的初始值就是要测量的薄膜参数。标准样品的选择和使用对于保持仪器准确度至关重要。

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薄膜作为一种特殊的微结构,近年来在电子学、力学、现代光学得到了广泛的应用,薄膜的测试技术变得越来越重要。尤其是在厚度这一特定方向上,尺寸很小,基本上都是微观可测量。因此,在微纳测量领域中,薄膜厚度的测试是一个非常重要而且很实用的研究方向。在工业生产中,薄膜的厚度直接关系到薄膜能否正常工作。在半导体工业中,膜厚的测量是硅单晶体表面热氧化厚度以及平整度质量控制的重要手段。薄膜的厚度影响薄膜的电磁性能、力学性能和光学性能等,所以准确地测量薄膜的厚度成为一种关键技术。总的来说,白光干涉膜厚仪是一种应用很广的测量薄膜厚度的仪器。膜厚仪常用知识

白光干涉膜厚仪可以配合不同的软件进行分析和数据处理,例如建立数据库、统计数据等。高速膜厚仪的用途和特点

基于表面等离子体共振传感的测量方案,利用共振曲线的三个特征参量半高宽、—共振角和反射率小值,通过反演计算得到待测金属薄膜的厚度。该测量方案可同时得到金属薄膜的介电常数和厚度,操作方法简单。我们利用Kretschmann型结构的表面等离子体共振实验系统,测得金膜在入射光波长分别为632.8nm和652.1nm时的共振曲线,由此得到金膜的厚度为55.2nm。由于该方案是一种强度测量方案,测量精度受环境影响较大,且测量结果存在多值性的问题,所以我们进一步对偏振外差干涉的改进方案进行了理论分析,根据P光和S光之间相位差的变化实现厚度测量。高速膜厚仪的用途和特点

标签: 光谱共焦