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非接触式光谱共焦使用误区

来源: 发布时间:2024年01月25日

光谱共焦传感器是一种高精度位移传感器,综合了光学成像和光谱分析技术,广泛应用于3C(计算机、通信和消费电子)电子行业。在智能手机中,光谱共焦传感器可用于线性马达的位移测量,通过实时监控和控制线性马达的位移,可大幅提高智能手机的定位功能和相机的成像精度。同时,还可以测量手机屏幕的曲面角度和厚度等参数。在生产平板电脑过程中,光谱共焦传感器还可用于各种移动结构部件的位移和振动检测。通过对平板电脑内的各种移动机构、控制元件进行精密位移、振动、形变和应力等参数的测量,实现对其制造精度和运行状态的实时监控。该技术可以采集样品不同深度处的光谱信息进行测量。非接触式光谱共焦使用误区

在工业领域,光谱共焦传感器的应用可以帮助企业实现更高精度的加工,提高产品的质量和生产效率。首先,高精度光谱共焦传感器可以实现对加工表面形貌的j精确测量。在精加工过程中,产品的表面形貌对产品的质量有着至关重要的影响。传统的测量方法往往需要接触式测量,不仅测量精度受限,而且容易对产品表面造成损伤。而光谱共焦传感器能够实现非接触式的高精度测量,不仅可以实现对产品表面形貌的整体测量,而且对产品表面不会造成任何损伤,极大地提高了测量的精度和可靠性。传统的检测方法往往需要取样送检,耗时耗力,而且无法实现对加工过程的实时监测。而光谱共焦传感器能够通过对反射光的分析,准确地获取产品表面的颜色和成分信息,实现对加工过程的实时监测和反馈,为企业提供了更加可靠的质量保证。高精度光谱共焦传感器在精加工领域的应用还可以帮助企业实现对加工工艺的优化和提升。通过对产品表面形貌、颜色以及成分等信息的完整获取,企业可以更加深入地了解产品的加工特性,发现潜在的加工问题,并针对性地进行工艺优化和改进,提高产品的加工精度和一致性,降低生产成本,提高企业的竞争力。新型光谱共焦光谱共焦技术可以在工业生产中发挥重要作用。

在实践中,光谱共焦位移传感器可用于很多方面,如:利用独特的光谱共焦测量原理,凭借一只探头就可以实现对玻璃等透明材料进行精确的单向厚度测量。透明材料上表面及下表面都会形成不同波长反射光,通过计算可得出透明材料厚度。光谱共焦位移传感器有效监控药剂盘以及铝塑泡罩包装的填充量。可以使传感器完成对被测表面的精确扫描,实现纳米级的分辨率。光谱共焦传感器可以单向对试剂瓶的壁厚进行测量,而且对瓶壁没有压力。可通过设计转向反射镜实现孔壁的结构检测及凹槽深度的测盘。(创视智能已推出了90°侧向出光版本探头,可以直接进行深孔和凹槽的测量)光谱共焦传感器用于层和玻璃间隙测且,以确定单层玻璃之间的间隙厚度。

本文通过对比测试方法,考核了基于白光共焦光谱技术的靶丸外表面轮廓测量精度。图5(a)比较了原子力显微镜轮廓仪和白光共焦光谱轮廓仪测量曲线,二者低阶轮廓整体相似性高,但在靶丸赤道附近的高频段轮廓测量上存在一定的偏差。此外,白光共焦光谱的信噪比也相对较低,只适合测量靶丸表面低阶的轮廓误差。图5(b)比较了原子力显微镜轮廓仪测量数据和白光共焦光谱轮廓仪测量数据的功率谱曲线,发现两种方法在模数低于100的功率谱范围内测量结果一致性较好,但当模数大于100时,白光共焦光谱的测量数据大于原子力显微镜的测量数据,这反映了白光共焦光谱仪在高频段测量数据信噪比相对较差的特点。由于共焦光谱检测数据受多种因素影响,高频随机噪声可达100nm左右。光谱共焦技术具有很大的市场潜力。

光谱共焦技术是一种高精度、非接触的光学测量技术,将轴向距离与波长的对应关系建立了一套编码规则。作为一种亚微米级、迅速精确测量的传感器,基于光谱共焦技术的传感器已广应用于表面微观形状、厚度测量、位移测量、在线监控和过程管控等工业测量领域。随着光谱共焦传感技术的不断发展,它在微电子、线宽测量、纳米测试、超精密几何量测量和其他领域的应用将会更加广。光谱共焦技术是在共焦显微术基础上发展而来,无需轴向扫描,可以直接利用波长对应轴向距离信息,大幅提高测量速度。光谱共焦技术的应用可以提高生产效率和质量。防水型光谱共焦制作厂家

基于白光LED的光谱共焦位移传感器是一种新型的传感器。非接触式光谱共焦使用误区

共焦位移传感器是一种共焦位移传感器,其包括:头单元,其包括共焦光学系统;约束装置,其包括投光用光源,所述投光用光源被构造为产生具有多个波长的光;以及光纤线缆,其包括用于将从所述投光用光源出射的光传送到所述头单元的光纤。所述头单元包括光学构件,所述光学构件被构造为在经由所述光纤的端面出射的检测光中引起轴向色像差并且使所述检测光朝向测量对象会聚。所述约束装置包括:分光器,其被构造为在经由所述光学构件照射于所述测量对象的所述检测光中使通过在聚焦于所述测量对象的同时被反射而穿过所述光纤的端面的检测光光谱分散,并且产生受光信号;以及测量约束部,其被构造为基于所述受光信号计算所述测量对象的位移。所述头单元包括显示部。所述测量约束部基于以所述约束装置的至少一个操作状态、表征各波长的受光强度的受光波形和所述位移的测量值为基础的演算结果约束所述显示部的显示。非接触式光谱共焦使用误区

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