上海锐宇流体系统有限公司专业生产半导体行业液体汽化源，在光伏.半导体等新型行业中大多数使用到化学气相沉积(CVD).金属有机物化学气相沉积（MOCVD）.原子层沉积（ALD）.反应离子蚀刻（RIE）等工艺,在这些工艺中工艺中化学品输送需要使用的输送设备是整个工业系统的关键，根据市场需要，依托于公司在热力学方面综合发明专利汽化技术（ZL201710323108.8 ,ZL201710164030.X）,我司开发了液体源汽化系统，系统充分考虑液态源化学品性质、温度、湿度变化对流量、品质和稳定性的影响，采用精密气体混合技术对混合气体浓度进行动态控制，能够调节流入气体浓度所带来的变化或偏移，系统包含气体和液体流量控制器和温控蒸发器.集成电源、显示屏和控制功能，产品应用场景灵活。上海锐宇流体系统有限公司专业生产液体汽化源，用于CVD工艺。化学气相沉积液体汽化源可控蒸发
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