江苏生产试验箱

下面为大家介绍一下真萍科技无氧干燥箱。一、技术指标与基本配置：1.使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃；2.炉膛腔数:2个,上下布置；3.炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度4.温度和氧含量记录:无纸记录仪；二、氧含量（配氧分析仪）：1.高温状态氧含量：≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量：≤20ppm+气源氧含量2.控温稳定度：±1℃；2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。如有需要各种试验箱，欢迎致电合肥真萍科技咨询。江苏生产试验箱

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的技术参数。产品类型：数显微电脑控制电源电压：AC220V±10％50Hz±2％温控范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动率：≤±0.5℃温度均匀度：≤±2℃输入功率：500W内胆尺寸(mm)：W300×D300×H270外形尺寸(mm)：W580×D480×H440载物托架：2块定时范围：0-9999分钟试验箱欢迎致电合肥真萍科技咨询试验箱相关知识。

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

通过调节试验箱的温度和湿度水平，研究人员可能会导致水分凝结。控制环境也允许测试人员将设备或产品暴露在"呼吸"过程中，即将空气中的水分吸入测试对象，从而检查防潮性能或吸湿后的功能水平。公司还使用由透明塑料制成，模拟沿海含盐潮湿空气的大气。设计用于热带地区的设备或物体可能会接受或霉菌孢子培养，并结合湿热进行测试。其他测试室可能会将测试对象暴露在热真空环境中，与外层空间的大气相似，离心机装置、振动台和其他机械装置放置在试验箱中，可以复制各种物理应力。合肥真萍告诉您试验箱如何去使用呢？

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的技术参数。1.送风方式：强制送风循环系统。2.温度范围：RT+10℃~300℃。3.温度精度：±1℃4.温度均匀性：±1℃5.温控装置：富士智能PID温控仪，LED数字显示，PID自动演算及定时。6.材质：内胆不锈钢，外箱体钢板静电喷塑。7.传送方式：链杆、链网、自动锟轮，相当强承重。8.特制复合式电加热器。9.保护装置：漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。合肥真萍向您介绍试验箱的好处。生产试验箱联系方式

合肥真萍科技告诉您试验箱的外观设计有哪些要求。江苏生产试验箱

下面为大家介绍一下超高真空烘箱的降温速率。1.升温时间：①常压时：90min（常温～+260℃）②低气压0.0001pa时：180min（常温～+260℃）2.降温时间：3℃～10℃/min（260℃～120℃）,1℃～5℃/min（120℃～常温℃）3.降温方式：水冷降温4.试验箱承压方式：采用内承压方式5.压力范围：常压～0.0001Pa。超高真空烘箱广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验。江苏生产试验箱