您好,欢迎访问

商机详情 -

常州箱式气氛炉

来源: 发布时间:2024年06月22日

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。下面为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的箱体结构。1.门与门框之间采用高性能密封材料及独特的橡胶密封结构,密封、耐高温性、抗老化性好。2.箱内风道采用双循环系统,不锈钢多翼式离心风轮及循环风道组成,置于箱体背部的电加热器热量通过侧面风道向前排出,经过干燥物后再被背部的离心风轮吸入,形成合理的风道,能使热空气充分对流,使箱内温度相当大限度达到均匀。提高了空气流量加热的能力,大幅改善了干燥箱的温度均匀性。3.加热器用不锈钢电加热管,升温快,寿命长。气氛炉定制生产,价格从优。常州箱式气氛炉

常州箱式气氛炉,气氛炉

冷热冲击试验箱具有模拟大气环境中温度变化规律。主要针对于电工,电子产品,以及其元器件及其它材料在高温,低温综合环境下运输,使用时的适应性试验。用于产品设计,改进,鉴定及检验等环节。真萍科技作为冷热冲击试验箱设备制造厂商,在冷热冲击试验箱设备制造领域的专业性是不用多说的。下面让真萍科技从温度方面,带您了解冷热冲击试验箱。一、温度均匀度旧标准称均匀度,新标准称梯度。温度稳定后,在任意时间间隔内,工作空间内任意两点的温度平均值之差的较大值。这个指标比下面的温度偏差指标更可以考核产品的**技术,因此好多公司的样本及方案刻意隐藏此项。一般标准要求指标为≤2℃。二、温度偏差温度稳定后,在任意时间间隔内,工作空间中心温度的平均值和工作空间内其它点的温度平均值之差。虽然新旧标准对此指标的定义和称呼相同,但检测已有所改变,新标准更实际,更苛刻一点,但考核时间短点。一般标准要求指标为2℃,纯高温试验箱200℃以上可按实际使用温度摄氏度(℃)2%要求。舟山哪里有气氛炉合肥真萍科技气氛炉值得推荐。

常州箱式气氛炉,气氛炉

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技作为精密鼓风烤箱的优良原厂厂家,设备都是自主生产销售,质量可靠,品质保证,欢迎来电咨询。大家对精密鼓风烘箱有没有些许了解呢,下面小编就带大家走近精密鼓风烘箱,为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的参数。技术参数:1.型号:CB-9023A2.产品类型:液晶显示3.电源电压:AC220V10%/50Hz2%4.控温范围:室温+10℃-200℃5.温度分辨率:0.1℃6.温度波动度:≤0.2℃7.温度均匀度:≤1.5%8.输入功率:500W9.工作室尺寸(mm):300(宽)*300(深)*270(高)10.载物托架:2块11.定时范围:0-9999分钟

连续炉即是连续作业炉,是指连续地或间歇地装料,工件在炉内不断移动,完成加热、保温,有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料,连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量,提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的技术参数。1.送风方式:送风循环系统;2.温度范围:RT+30℃~300℃;3.温度精度:1℃4.温度均匀性:1℃5.温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时;6.材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑;7.传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重;8.复合式电加热器;9.保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。合肥真萍科技气氛炉专业值得信赖。

常州箱式气氛炉,气氛炉

下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的技术指标。1.HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。2.低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)3.温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)4.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)为您推荐气氛炉的专业生产厂家。福建哪里有气氛炉

气氛炉的作用是什么?合肥真萍告诉您。常州箱式气氛炉

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。常州箱式气氛炉

化合物芯片:华兴激光、华芯半导体、锐晶光电、武汉光迅、度亘半导体、新亮智能科、雷芯、卓胜微、三安集成电路、慧芯激光、吉光半导体、云岭光电、鸿辰光子、中电化合物、天域半导体、长沙三安、长飞先进、基本半导体、宝鼎乾芯、海宁中科、深圳方正微、海科电力、苏州龙驰、上海新微、常州承芯、美新半导体、能华微、诺思微、武汉高德、海康微影、光智半导体;

液晶面板:京东方、龙腾光电、昆山国显光电等等;

研究所大专院校:中国科学院上海硅酸盐研究所、中科院安徽光学精密机械研究所、中科院上海光学精密机械研究所、上海应用物理研究所、清华大学天津研究院、中科院光电技术研究所、中国电子集团第十三研究所、中国电子科技集团第43研究所、中国电子科技集团第55研究所、中国电子科技集团第44研究所、中科院化学所、中国科学院苏州纳米与仿真研究所、中科院半导体研究所、中国科学院微电子研究所、兵器二一四研究所、上海微技术开发研究院、清华大学、中国科技大学、北京大学、南昌大学、西安电子科技大学、安徽大学、天津大学、山东大学等;

电子行业:宁波华瓷通信、湖南华联特陶、领益制造、深南电路、卓怡恒通等等。