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下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。二、设计特点1.后门设计热风电机2.降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的合肥真萍告诉您使用网带炉的便捷性。芜湖小型网带炉专卖

连续炉即是连续作业炉，是指连续地或间歇地装料，工件在炉内不断移动，完成加热、保温，有时包括冷却在内全过程的热处理炉。连续作业炉可借助某些机械机构连续地或间歇地进行装料和出料，连续顺序地通过按零件处理工艺要求的不同温度区完成加热过程。使用连续作业炉可提高产品质量，提高劳动生产率和改善劳动条件。下面为大家介绍一下连续炉的产品材质和产品特点。一、产品材质1.外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板/内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢；2.保护装置定时报警断电装置、超温断电、漏电保护断路器、电机过载保护。二、产品特点1.双边配有链条传动，解决传送过程中跑偏的现象；2.烘箱分段式加热，单独电箱控制，方便操作，结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成，多段单独；3.PID温度控制，炉内温度均匀；4.输送速度变频调速，调节自如，运行平稳，产能高；5.每段单独箱体设置废气排放接口，可外接到车间外面，避免车间废气污染。常州大型网带炉批发上海哪家的网带炉比较好？

下面为大家简单介绍一下无氧干燥箱。1.技术指标与基本配置：1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃；1.2炉膛腔数:2个,上下布置；1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪；2.氧含量（配氧分析仪）：2.1高温状态氧含量：≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量：≤20ppm+气源氧含量2.2控温稳定度：±1℃；2.3温度均匀度：±2%℃（260℃平台）；无氧干燥箱主要应用于航空、航天、石油、化工、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。

一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度±1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度±6℃（恒温800℃,1h）二、冷却系统1.冷却结构无2.产品降温随炉降温3.安全保护4.报警指示超温、断偶、停水、停气等声光报警保护5.设备安全升温速率≤5℃/min，在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。合肥真萍科技为您提供网带炉相关专业解答。

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的箱体结构。1.烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，N2进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。2.外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘。3.内胆材料：采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。4.保温材料：采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。5.电热部分：采用进口覆套式电热器（SHEATHEDHEATER）无尘无氧化电热发生器。6.风道部分：整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A，(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100。网带炉的运用领域有哪些？上海复合网带炉批发

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一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。二、设计特点1.后门设计热风电机2.降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的芜湖小型网带炉专卖