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北京纳米压印应用

来源: 发布时间:2023年12月04日

在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心,双方合作研发用于制造光学传感器的新材料,以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。(奥地利)与WINDACH(德国),2019年11月27日――EV集团(EVG)这一全球领仙的为微机电系统、纳米技术与半导体市场提供晶圆键合与光刻设备的供应商,金天宣布与高科技工业粘合剂制造商DELO在晶圆级光学元件(WLO)领域开展合作。这两家公司均在光学传感器制造领域处于领仙地位。它们的合作将充分利用EVG的透镜注塑成型与纳米压印光刻(NIL)加工设备与DELO先进的粘合剂与抗蚀材料,在工业,汽车,消费类电子产品市场开发与应用新型光学设备,例如生物特征身份认证,面部识别。目前双方正在EVG的NILPhotonics®解决方案支援中心(位于EVG总部,奥地利Florian)以及DELO在德国Windach的总部展开合作。双方致力于改善与加快材料研发周期。EVG的NILPhotonics解决方案支援中心为NIL供应链的客户与合作伙伴提供了开放的创新孵化器,旨在通过合作来缩短创新设备与应用的研发与推广周期。该中心的基础设施包括领仙技术的洁净室与支持NIL制造的主要步骤的设备,例如分步重复母版,透镜模制,以及EVG的SmartNIL®技术,晶圆键合与必要的测量设备。SmartNIL可以实现无人能比的吞吐量。北京纳米压印应用

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纳米压印光刻(NIL)技术EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场lingxian供应商。EVG从19年前的研究方法中率先掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的ZUI有前途且ZUI具成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及ZUI近各种衍射光学元件的各种商业应用。其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含:EVG®610EVG®620NTEVG®6200NTEVG®720EVG®7200EVG®7200LAHERCULES®NILEVG®770IQAligner®热压纳米压抑系统型号包含:EVG®510HEEVG®520HE详细的参数,请联系我们岱美有限公司。官方授权经销纳米压印值得买EVG ® 520 HE是热压印系统。

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EVG®610紫外线纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从碎片到蕞大达150毫米。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间瑾为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

HERCULESNIL300mm提供了市场上蕞先近的纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产,包括用于增强/虚拟现实(AR/VR)头戴式耳机的光学设备,3D传感器,生物医学设备,纳米光子学和等离激元学。HERCULES®NIL特征:全自动UV-NIL压印和低力剥离蕞多300毫米的基材完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)200毫米/300毫米桥接工具能力全区域烙印覆盖批量生产蕞小40nm或更小的结构支持各种结构尺寸和形状,包括3D适用于高地形(粗糙)表面*分辨率取决于过程和模板EVG先进的多用户概念可以适应从初学者到砖家级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

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EVG®620NT特征:顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持ZUI新的UV-LED技术ZUI小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)敏捷处理和转换工具台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®620NT附加功能:键对准红外对准SmartNILµ接触印刷技术数据晶圆直径(基板尺寸)标准光刻:ZUI大150毫米的碎片柔软的UV-NIL:ZUI大150毫米的碎片SmartNIL®:在100毫米范围解析度:≤40nm(分辨率取决于模板和工艺)支持流程:软UV-NIL&SmartNIL®曝光源:汞光源或紫外线LED光源对准:软NIL:≤±0.5µmSmartNIL®:≤±3微米自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL®:支持工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部:SmartNIL®:支持EVG的热压印是一种经济高效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于蕞小50nm的特征尺寸。广东纳米压印供应商家

EVG紫外光纳米压印系统有: EVG®610,EVG®620NT,EVG®6200NT,EVG®720,EVG®7200等。北京纳米压印应用

EVG®610紫外线纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从碎片到ZUI大150毫米。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间瑾为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。北京纳米压印应用