金属表面抛光技，又称表面整平技术，在整平程度要求很高的特殊情况下则称之为镜面加工技术。表面整平技术是随着人类在寻求生存过程中的生产活动和生活需要而发展起来的。我们的祖先在发展生产的过程中所使用的工具，...

氧化铝抛光液。α-氧化铝（刚玉）硬度高，稳定性好，纳米氧化铝适用于光学镜头、单芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛光，是一种使用的无机磨料。现在以高亮度Ga N基蓝光LED为的半导体照明...

氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光...

高锰酸钾：可当作1种氧化剂添加到拋光溶液中，当抛光液中午硝酸时，加入高锰酸钾能够提升 光滑度和光亮度，在有高锰酸钾的情形下，在抛光溶液中加入一定量的硝酸铵时，黄烟的形成量会明显减少，甚至于没有黄烟。高...

在化学机械抛光中运用的氧化铝磨料，常选用硬度大、性能安稳、不溶于水、不溶于酸碱的纳米α-Al2O3。作为化学机械抛光磨料，氧化铝颗粒的巨细、形状、粒度散布都影响抛光效果。在LED行业，CMP抛光液中常...

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相...

LED行业目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不...

砂带的材料去除率随着磨削压力的增大而提高，因为磨削压力的增加使金刚石磨粒的切削载荷和磨削深度增加，单位时间内可去除更多的材料，磨削效率提高；但当磨削压力增加到55N时磨削效率出现明显下降，磨削压力过大...

目前，多孔氧化铝陶瓷的制备工艺主要有添加造孔剂法、有机泡沫浸渍法、发泡法、颗粒堆积工艺、冷冻干燥法和凝胶注模法。1、添加造孔剂法添加造孔剂法是制备多孔氧化铝陶瓷较为简单、经济的方法，该工艺是在氧化铝陶...

其次就是氧化铝陶瓷在耐磨的性能上非常高，整体在耐磨的性能上比锰钢高出很多倍，如果是在相同的情况下，使用氧化铝陶瓷或者是锰钢的话，氧化铝陶瓷在应用的优势上是非常突出的，至少要比锰钢多使用十倍，甚至更长久...

为何半绝缘型与导电型碳化硅衬底技术壁垒都比较高？PVT方法中SiC粉料纯度对晶片质量具有较大影响。粉料中一般含有极微量的氮（N），硼（B）、铝（Al）、铁（Fe）等杂质，其中氮是n型掺杂剂...

氧化铝陶瓷具有机械强度高,绝缘电阻大,硬度高,耐磨、耐腐蚀及耐高温等一系列优良性能,其广泛应用于陶瓷、纺织、石油、化工、建筑及电子等各个行业,是目前氧化物陶瓷中用途广、产销量比较大的陶瓷新...