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新闻中心 - 江苏迪纳科精细材料股份有限公司
  • 河南镀膜靶材售价

    5.真空封装:-未使用的ITO靶材应真空封装储存,避免空气中的湿气和氧化作用影响靶材品质。6.清洁工具:-应准备**的无尘布、高纯度溶剂和其他清洁工具,用于靶材的清洁和维护。7.磨损监测工具:-定期使...

    发布时间:2024.11.01
  • 黑龙江氧化锌靶材生产企业

    众所周知,靶材材料的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关,随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进,靶材技术也应随之变化。如Ic制造商.近段时间致力于低电阻率铜布线的开发,预计未来几年...

    发布时间:2024.11.01
  • 辽宁氧化物靶材厂家

    化学特性化学稳定性:碳化硅在多数酸性和碱性环境中都显示出极好的化学稳定性,这一特性是制造过程中重要的考量因素,确保了长期运行的可靠性和稳定性。耐腐蚀性:碳化硅能够抵抗多种化学物质的腐蚀,包括酸、碱和盐...

    发布时间:2024.11.01
  • 辽宁氧化物靶材市场价

    化学特性化学稳定性:碳化硅在多数酸性和碱性环境中都显示出极好的化学稳定性,这一特性是制造过程中重要的考量因素,确保了长期运行的可靠性和稳定性。耐腐蚀性:碳化硅能够抵抗多种化学物质的腐蚀,包括酸、碱和盐...

    发布时间:2024.11.01
  • 重庆显示行业靶材价格咨询

    其常见的靶材及其应用:如碲化铟(IndiumSelenide,InSe)靶材:碲化铟是一种半导体材料,具有优异的光电性能和可调谐的能带结构。它被广泛应用于太阳能电池、光电二极管、光伏探测器、红外光电探...

    发布时间:2024.10.31
  • 浙江显示行业靶材

    真空热压工艺:真空环境下压制:将ITO粉末在真空环境下通过热压工艺进行成型。真空环境可以有效防止材料氧化,并且可以减少杂质的引入。同步进行热处理:与传统的压制成型不同,真空热压将压制和热处理合二为一,...

    发布时间:2024.10.31
  • 青海氧化物靶材推荐厂家

    碳化硅靶材的基本特性中的物理特性:高密度:碳化硅靶材具有高密度,这意味着它能提供较高的靶材利用率,降**造过程中的材料浪费。极高硬度:硬度是材料抵抗形变的能力,碳化硅的摩氏硬度高达9-10,仅次于钻石...

    发布时间:2024.10.31
  • 江苏ITO靶材生产企业

    此外密切关注靶材在溅射过程中的行为,如温度变化、靶材消耗速率等,可以帮助进一步提升薄膜的质量和性能。五、存储与保养:1.存储条件:-ITO靶材应存放在干燥、清洁、温度稳定的环境中,以防止因湿度和温度变...

    发布时间:2024.10.31
  • 中国香港靶材

    以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅...

    发布时间:2024.10.31
  • 重庆氧化锌靶材咨询报价

    金属靶材应用主要包括平板显示器、半导体、太阳能电池、记录媒体等领域。其中平板显示器占,半导体占,太阳能电池占,记录媒体占。半导体芯片用金属溅射靶材的作用,就是给芯片上制作传递信息的金属导线。具...

    发布时间:2024.10.30
  • 安徽智能玻璃靶材生产企业

    镀膜的主要工艺有物***相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。(1)PVD技术是目前主流镀膜方法,其中的溅射工艺在半导体、显示面板应用***。PVD技术分为真空蒸镀法、溅镀法和离子镀法。三种方法各...

    发布时间:2024.10.30
  • 安徽ITO靶材

    (1)靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的**部分,涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。(2)背板起到主要起...

    发布时间:2024.10.30
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