您好,欢迎访问
标签列表 - 纳糯三维科技(上海)有限公司
  • 浙江进口无掩膜光刻系统

    世界上头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合,从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制,自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点,您可以进行几乎任何形状,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的创新设计。欢迎咨询。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨无掩膜光刻系统未来的发展趋势。浙...

  • 天津双光子无掩膜光刻微纳加工系统

    由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料,是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件,从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期,包括仿生表面,微光学元件,机械超材料和3D细胞支架等。利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术,斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。将12050微米直径的微光学器件直接...

  • 浙江2GL无掩膜光刻无掩光刻

    全新QuantumXshape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统QuantumX产品系列的第二台设备,可实现在25cm²面积内打印任何结构,很大程度推动了生命科学,微流体,材料工程学中复杂应用的快速原型制作。QuantumXshape作为具备光敏树脂自动分配功能的直立式打印系统,非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制...

  • 湖南德国无掩膜光刻3D光刻

    全新QuantumXshape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统QuantumX产品系列的第二台设备,可实现在25cm²面积内打印任何结构,很大程度推动了生命科学,微流体,材料工程学中复杂应用的快速原型制作。QuantumXshape作为具备光敏树脂自动分配功能的直立式打印系统,非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制...

  • 浙江德国无掩膜光刻无掩膜激光直写

    基于低成本和小型化特点的集成光子芯片技术,该项目有望将光学相干断层扫描(OCT)从局限的眼科临床应用带入更广的眼科护理移动应用中来。由维也纳医科大学牵头的HandheldOCT研究项目旨在运用成熟的光学相干断层扫描成像技术(OCT),来实现便携式现场即时眼科护理检查。预计此款正在开发的具备先进技术和成本效应的便携式集成光子芯片技术OCT成像设备将用于诊断和监测多种眼部疾病,例如,老年性黄斑病变、糖尿病性视网膜病变以及青光眼,这些疾病在世界范围内都是导致失明的主要因素。该便携式设备将会在维也纳总医院进行测试以验证其在眼科诊断的效果。由于没有物理掩膜,无掩膜光刻技术可以快速地制造出大量的芯片,提高...

  • 浙江微纳米无掩膜光刻技术

    Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。Nanosc...

  • 河南Nanoscribe无掩膜光刻工艺

    全新QuantumXshape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统QuantumX产品系列的第二台设备,可实现在25cm²面积内打印任何结构,很大程度推动了生命科学,微流体,材料工程学中复杂应用的快速原型制作。QuantumXshape作为具备光敏树脂自动分配功能的直立式打印系统,非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制...

  • 湖南高分辨率无掩膜光刻微纳光刻

    斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心,共同合作研发了世界上特别小的3D打印微型内窥镜。该内窥镜所用到的微光学器件宽度只有125微米,可以用于直径小于半毫米的血管内进行内窥镜检查。而这个精密的微光学器件是通过使用德国Nanoscribe公司的双光子微纳3D打印设备制作的。微型内窥镜可以帮助检测人体动脉内的斑块、血栓和胆固醇晶体,因此对于医学检测极其重要,可以有助于减少中风和心脏病发作的风险。来自不来梅大学微型传感器、致动器和系统(IMSAS)研究所的科学家们发明了一种全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系统,利用双光子聚合原理(2PP)结合光刻技术...

  • 湖北双光子无掩膜光刻激光直写

    Nanoscribe公司推出针对微光学元件(如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻胶。全新光敏树脂材料具有高折射率,高色散和低阿贝数的特性,这些特性对于3D微纳加工创新微光学元件设计尤为重要,尤其是在没有旋转对称性和复合三维光学系统的情况下。由于在红外区域吸收率不高,因此光敏树脂成为了红外微光学的优先,同时也是光通讯、量子技术和光子封装等需要低吸收损耗应用的相当好的选择。全新IP-n162光刻胶是为基于双光子聚合技术的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可实现具有高精度形状精度的创新微光学设计,并将高精度微透镜和自由曲面3D微光学提升到一个新的...

  • 江苏工业级无掩膜光刻微纳加工系统

    高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点,您可以进行几乎任何形状,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的创新设计。另外,Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作...

  • 上海2GL无掩膜光刻工艺

    借助Nanoscribe双光子聚合技术特殊的高设计自由度和高精度特点,您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能,以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度达到上限的微纳3D打印机。该设备将双光子聚合的极高精度技术特点与跨尺度的微观3D...

  • 湖南进口无掩膜光刻无掩光刻

    世界上头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。该无掩模光刻系统将灰度光刻的出色性能与Nanoscribe的双光子聚合技术的精度和灵活性相结合,从而达到亚微米分辨率并实现对体素大小的超快控制,自动化打印以及特别高的形状精度和光学质量表面。高精度的增材制造可打印出顶端的折射微纳光学元件。得益于Nanoscribe双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点,您可以进行几乎任何形状,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的创新设计。欢迎咨询。我们的无掩膜光刻写技术精细可靠,保证产品质量和稳定性。湖南进口无掩膜光刻无掩光刻 如何能够利用微纳尺寸...

  • 天津双光子聚合无掩膜光刻微纳加工系统

    如何能够利用微纳尺寸的旋转轴和铰链改进传感器并为新的传感器设计概念铺平道路?这正是位于代顿(俄亥俄州)的美国空军技术学院的科研人员们通过在光纤上打印具有可活动部件的微型3D传感器所聚焦的课题。内置的铰链和微轴给传感器设计带来的新的设计理念,例如用于流量传感的微转子,可通过物***相沉积法来进入以往不易触及的区域的微型传感器。 光纤上3D打印的流量传感器(渲染动画):转子被安装在光纤端面的一个偏心轴上,传感器的信号由通过光纤芯的反射光产生,以实现流量传感的应用。 无掩膜光刻技术的生产效率高。由于该技术可以并行复制,因此可以提高生产效率,降低生产成本。天津双光子聚合无掩膜光刻微纳加工系统...

  • 湖南2GL无掩膜光刻无掩膜激光直写

    作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点,同时缩短创新微纳光学器件(如衍射和折射光学器件)的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制...

  • 德国高分辨率无掩膜光刻PPGT

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D无掩模光刻技术,用于快速,精度非常高的微纳加工,可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作无掩膜光刻认准纳糯三维科技(上海)有限公司。德国高分辨率无掩膜光刻PPGTQuantumXsh...

  • 重庆2PP无掩膜光刻工艺

    作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点,同时缩短创新微纳光学器件(如衍射和折射光学器件)的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制...

  • 江苏双光子聚合无掩膜光刻3D打印

    Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。Nanosc...

  • 江苏双光子聚合无掩膜光刻技术3D打印

    科学家们运用Nanoscribe的双光子聚合技术(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并结合软光刻技术做后续复制工作。随后,在密闭的微流道中通过芯片内3D微纳加工技术直接制作复杂结构喷丝头。这种集成复杂3D结构于传统平面微流控芯片的全新方式为微纳加工制造打开了新的大门。布鲁塞尔自由大学的光子学研究小组(B-PHOT)的科学家们正在通过使用Nanoscribe双光子聚合技术(2PP)将光波导漏斗3D打印到光纤末端上来攻克将具有不同模场几何形状的两个元件之间的光束进行高效和稳健耦合这个难题。这些锥形光束漏斗可调整SMF的模式场,以匹配光子芯片上光波导模式场。Nanoscribe的2PP技术将可调整模...

  • 江苏德国无掩膜光刻

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D无掩模光刻技术,用于快速,精度非常高的微纳加工,可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作;也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下,实现不同参数的创新3D结构的制作。微米级增...

  • 湖北2PP无掩膜光刻无掩光刻

    Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印,突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以比较广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速...

  • 江苏高精度无掩膜光刻

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要,这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。全新QuantumXshape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统QuantumX产品系列的第二台设备,可实现在25cm²面积内打印任何结构,很大程度...

  • 辽宁高精度无掩膜光刻

    Nanoscribe的PhotonicProfessional设备可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上(例如孔状硅材及二氧化硅)。突出特点是不再像常规的双光子聚合(2PP)那样在基体表面进行直写,而是在孔型支架内。通过调整直写激光的曝光参数可以改变微孔支架内材料的聚合量,从而影响打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技术(通过激光束曝光控制的亚表面折射率)可以在保证亚微米级别的空间分辨率同时,对折射率的调节范围甚至超过0.3。为了证明SCRIBE新技术的巨大潜力,科研人员打印了众多令人瞩目的光学组件,例如已经提到的龙勃透镜。此外科研人员还打印了消色差双合...

  • 河南超高速无掩膜光刻无掩光刻

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D无掩模光刻技术,用于快速,精度非常高的微纳加工,可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作;也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下,实现不同参数的创新3D结构的制作。德国Na...

  • 浙江无掩膜光刻激光直写

    QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开...

  • 湖北进口无掩膜光刻3D光刻

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D无掩模光刻技术,用于快速,精度非常高的微纳加工,可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作;也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下,实现不同参数的创新3D结构的制作。微米级增...

  • 高分辨率无掩膜光刻三维微纳米加工系统

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D无掩模光刻技术,用于快速,精度非常高的微纳加工,可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作;也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下,实现不同参数的创新3D结构的制作易于实现自...

  • 天津高精度无掩膜光刻系统

    斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心,共同合作研发了世界上特别小的3D打印微型内窥镜。该内窥镜所用到的微光学器件宽度只有125微米,可以用于直径小于半毫米的血管内进行内窥镜检查。而这个精密的微光学器件是通过使用德国Nanoscribe公司的双光子微纳3D打印设备制作的。微型内窥镜可以帮助检测人体动脉内的斑块、血栓和胆固醇晶体,因此对于医学检测极其重要,可以有助于减少中风和心脏病发作的风险。来自不来梅大学微型传感器、致动器和系统(IMSAS)研究所的科学家们发明了一种全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系统,利用双光子聚合原理(2PP)结合光刻技术...

  • 浙江无掩膜光刻多少钱

    QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开...

  • 湖南2PP无掩膜光刻3D打印

    作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点,同时缩短创新微纳光学器件(如衍射和折射光学器件)的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制...

  • 江苏微纳米无掩膜光刻3D微纳加工

    由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料,是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件,从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期,包括仿生表面,微光学元件,机械超材料和3D细胞支架等。利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术,斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。将12050微米直径的微光学器件直接...

1 2 ... 9 10 11 12 13 14 15 ... 22 23