广东省科学院半导体研究所
基材表面可能存在的氧化物和锈蚀也是影响镀膜质量的重要因素。这些杂质会在镀膜过程中形成缺陷,降低镀层的附着力和耐久性。因此,在预处理...
氩气的送气均匀性也会对膜层均匀性产生影响。因为氩气的进入会改变真空室内的压强分布,从而影响离子的运动轨迹和镀膜均匀性。因此,在镀膜...
材料刻蚀技术是微电子制造领域中的中心技术之一,它直接关系到芯片的性能、可靠性和制造成本。在微电子器件的制造过程中,需要对各种材料进...
在高科技迅猛发展的现在,真空镀膜技术作为一种重要的表面处理技术,被普遍应用于航空航天、电子器件、光学元件、装饰工艺等多个领域。真空...
温度越高刻蚀效率越高,但是温度过高工艺方面波动较大,只要通过设备自带温控器和点检确认。刻蚀流片的速度与刻蚀速率密切相关喷淋流量的大...