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西藏激光粒度粒形分析仪报价

来源: 发布时间:2023年02月07日

CPS纳米粒度分析仪测量参数:粒径、粒形和浓度;粒径范围:0.1-3600μm;浓度范围:高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒);供样方式:液体、干粉、表面;系统规格/重量电源:665L×280W×183H(mm);14Kg;100-130V,205-240V,50/60Hz,100VA;2mW He-Ne,632.8nm,硅PIN二极管检测器;全量程的0.3%,小可达0.2μm;同步频闪光源,亮度和持续时间可调;频闪率;可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素;PAL768×572像素。Windows XP操作系统,检测报告自动生成,符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准;符合多项ISO方法标准;测量池模块:液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。公司地理位置优越,拥有完善的服务体系。西藏激光粒度粒形分析仪报价

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印刷和涂料,涂料:水基和油基涂料,微纤维涂料粘度改性剂,打印机/复印件墨粉,喷墨打印机墨水,炭黑,磁性材料。半导体:微磨料,CMP化学机械抛光。其他:纳米微球,淀粉/面粉颗粒,颗粒团聚模式分析,标准颗粒。CPS纳米粒度分析仪的操作软件集数据于一体,主要包括以下特性:后台数据采集,允许测量时浏览数据;重量,表面积,数量和吸收分布图;可以在同一张图表上显示20个不同的分布结果;可定制的分布统计输出结果;完整的粒度分布统计。浙江纳米粒度分析仪哪家好驰光生产的产品受到用户的一致称赞。

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UHR型可达1%,良好性能:CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果,即使对于使用其它分析方法非常难分析的样品,CPS依然能够提供满意的分析结果。高分辨率:CPS具有强大的分辨率,粒径差别在2%以内的窄峰可以被完全分辨出来。所示样品包含五种不同的聚苯乙烯标定颗粒,在图中可以清楚地看到它们完全被分辨出来呈现为五个单独的粒度峰。高准确度:可追溯&校准到NIST标准颗粒的可靠、重复性结果。高精度:与SEM/显微镜分析结果的对比。

高灵敏度:即使只有1微克样品,CPS也能得到一个准确的粒度分布结果。快速、高精度数模(A/D)转换:可用信号分辨率(即软件操作的数据对象)决定于数模转换(A/D)过程。CPS系统使用的数模转换可以实现在每秒31次取样时保持20位以上的精度,即百万分之一的误差。快速检测头响应:CPS系统的检测头和电路设计允许在95%精度下0.1秒的响应速度,而同类产品的响应时间为1-4秒。这一出众的快速移动峰值检测能力较大地扩展了测量的动态范围,比同类型产品提供高出4倍多的分析速度。驰光机电坚持“顾客至上,合作共赢”。

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C-Quand在线EDXRF分析仪在PTA工艺中的应用,产品综述:精对苯二甲酸,英文名简称为PTA,它是聚酯生产链的重要组成部分,是中国重要的化工原料。PTA可用于生产聚酯,合成纤维和增塑剂等,它们大量用于工业塑料,薄膜,涂料和其他领域。作为纺织化纤和石油化工两大行业的重要中间体,PTA起着重要的承上启下作用。测量的必要性:通过添加醋酸钴和醋酸锰以及四溴乙烷催化剂,对二甲苯氧化可以制取苯二甲酸(TA)。如果能够对催化剂元素含量(钴、锰和溴Br)进行连续在线分析,可以更好地控制工艺驰光机电真诚希望与您携手、共创辉煌。浙江纳米粒度分析仪哪家好

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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!西藏激光粒度粒形分析仪报价

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