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无尘埃破坏真空烘箱

来源: 发布时间:2023年11月21日

真空烘箱可供科研、院校、工矿、化工等单位实验室以及生产现场,在真空状态下对物品进行干燥和热处理等。设备利用真空泵进行抽湿。使工作室内形成真空状态有效降低水分沸点温度。加快干燥速度、避免物品加热过程中导致氧化和损坏,避免尘埃破坏。

工作室采用质量不锈钢板。钢化双层玻璃视窗,工作室内产品一目了然;箱门闭合松紧可调,整体成型硅橡密封圈,确保向内高真空度;微电脑智能控温仪,设定、测定温度;双数字显示和PID自整定功能,控温精确;加热功率比例可任意调节;真空泵采用内置泵体,噪音小易维护。 经常调整填料压盖,保证填料室内的滴漏情况正常(以成滴漏出为宜)。无尘埃破坏真空烘箱

真空烘箱

一般的电热(鼓风)干燥箱均设有温度均匀度参数:自然对流式的干燥箱为工作温度上限乘3%,强制对流式的干燥箱为工作温度上限乘2.5%。惟独电热真空干燥箱不设温度均匀度参数,这是因为真空干燥箱内依靠气体分子运动使工作室温度达到均匀的可能性几乎已经没有了。因此,从概念上我们就不能再把通常电热(鼓风)干燥箱所规定的温度均匀度定义用到真空干燥箱上来。在真空状态下设这个指标也是没有意义的。热辐射的量与距离的平方成反比。同一个物体,距离加热壁20cm处所接受的辐射热只是距离加热壁10cm处的1/4。差异很大。这种现象与冬天晒太阳时,晒到太阳的一面很暖和,晒不到太阳的一面比较冷是一个道理。由于真空干燥箱在结构上很难做到使工作室三维空间内的各点辐射热的均匀一致,同时也缺乏好的评估方法,这有可能是电热真空干燥箱标准中不设温度均匀度参数的原因。舟山噪音小真空烘箱维修维护真空泵在寒冬季节使用时,停车后,需将泵体下部放水螺塞拧开将介质放净。防止冻裂。

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真空烘箱专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计,能够向内部充入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥。该产品有以下特点:  1、长方体工作室,使有效容积达到比较大,微电脑温度控制器,精确控温。温度控制器2、钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体,一目了然。3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。

在真空条件下,溶剂沸点明显降低,箱内保持温度恒定。烘箱结构真空烘箱能在较低温度下获得较高的干燥速率,热量利用充足,主要合用于对热敏性物料和含有容剂及需回收溶剂物料的干燥。在干燥前可进行消毒办理,干燥过程中任何不纯物无混入,本干燥器属于静态真空干燥器,故干燥物料的形成不会破坏。加热方式有:蒸汽、热水、导热油、电热。真空烘箱专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计,能够向内部充入惰性气体,特别是一些成分复杂的物件也能进行快速干燥。储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。

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    高温真空烘箱主要是针对各种电子、塑胶、金属.....耐高温性能测试。用于干燥、烘烤、预热各种材料或试片。采用特殊设计之强制循环送风系统,可靠保证工作温度分布均匀度。性能特点箱体结构:整机结构为一体式;真空泵安装:真空泵安装于机器下部面板安装:控制面板安装于机台下方开门方式:单门由右至左开启;可视窗:门上带可视窗,规格W200*H250mm安装带刹车活动脚轮,可任意推动温度控制为PID数显仪表(台**松仪表EM705),单点式控温,可自动演算,PV/SV同时显示,按键设定定时器设定:1秒-9999时(可选择设定小时、分钟、秒)温到计时,时间到停止加热,同时报警提示300度高温真空烘箱技术参数型号:GT-TK-125温度范围:常温+20℃~+300℃内尺寸:500(宽)×500(深)×500(高)mm;(单箱式)外尺寸约:800(宽)×820(深)×1420(高)mm+110轮高,以实物为准内材质为:304#不锈钢板外材质为:冷轧钢板保温材质为:耐高温岩棉,保温效果好控制精度:±℃;显示精度:℃;温度过冲:≤3℃真空感应器为:压力感应;真空度使用范围:真空保压泄漏率:约;真空控制方式为,自动控制,达到上限停止,低于下限启动,循环工作300度高温真空烘箱使用说明超温保护系统:温度失控时。干燥的物品如干燥后改变为重量轻,体积小(为小颗粒状),应在工作室内抽真空口加隔阻网。无尘埃破坏真空烘箱

本所物料的干燥周期,每隔一段时间观察一下,历力表,温度表,和箱体内的变化,来处理。无尘埃破坏真空烘箱

在CCD(电荷耦合器件)制造过程中,颗粒沾污对CCD的薄膜质量、光刻图形完整性等有很大的影响,降低CCD的成品率。CCD制造过程中的颗粒来源主要有两个方面:一个制造过程中工艺环境产生的颗粒;另一个是薄膜的淀积、光刻和离子注入等CCD工艺过程中产生的颗粒。工艺环境的颗粒可来源于墙体、设施、设备、材料和人员,工艺过程的颗粒来源于易产生粉尘的工艺,比如说LPCVD淀积多晶硅和氮化硅及刻蚀工艺等。无尘烘箱,即使在普通环境下使用,能够确保烘箱内部等级达到Class 100,为CCD(电荷耦合器件)制造过程中烘烤提供洁净环境,预防颗粒沾污无尘埃破坏真空烘箱

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