光刻胶的去除在IC制造工艺流程中占非常重要的地位,其成本约占IC制造工艺的20-30%,光刻胶去胶效果太弱影响生产效率,去胶效果太强容易造成基底损伤,影响整个产品的成品率。传统主流去胶方法采用湿法去胶,成本低效率高,但随着技术不断选代更新,越来越多IC制造商开始采用干法式去胶,干法式去胶工艺不同于传统的湿法式去胶工艺,它不需要浸泡化学溶剂,也不用烘干,去胶过程更容易控制,避免过多算上基底,提高产品成品率。干法式去胶又被称为等离子去胶,其原理同等离子清洗类似,主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶,由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。等离子物理去胶过程:主要是物理作用对清洗物件进行轰击达到去胶的目的,主要的气体为氧气、氩气等,通过射频产生氧离子,轰击清洗物件,以获得表面光滑的较大化,并且结果是亲水性增大。微波等离子清洗机自由基分子的等离子体无偏压,不会对产品产生电性损坏。浙江在线式等离子清洗机生产企业
相较于传统的清洗方法,如化学清洗、机械清洗等,等离子清洗机具有明显的技术优势。首先,等离子清洗过程无需使用溶剂或水,因此不会产生废液或废水,减少了环境污染,符合现代工业的绿色生产要求。其次,等离子清洗能够深入到材料表面的微细孔隙和凹陷处,实现、无死角的清洁,有效去除传统方法难以触及的污染物。再者,等离子清洗过程温和且可控,不会对材料基体造成损伤,尤其适合处理精密、脆弱的部件。此外,等离子清洗还能通过调整气体种类和工艺参数,实现对材料表面性质的精确调控,如提高表面润湿性、促进化学反应等。这些技术优势使得等离子清洗机在微电子制造、光学元件清洁、医疗器械消毒、航空航天材料预处理等多个应用场景中展现出强大的竞争力。吉林在线式等离子清洗机厂商射频电源的频率直接决定了电场变化的速率,进而影响等离子体的生成和特性。
等离子表面处理技术凭借其独特的优势,在3C消费电子行业得到了广泛应用,助力提升3C电子产品组装的稳定性和可靠性,改善用户体验,提高产品竞争力。在手机行业中,等离子表面处理技术主要应用于手机组装粘接前、中框粘接前、摄像头模组封装前、手机触摸屏等工艺中,通过等离子处理可有效解决粘接不牢、焊接不牢、点胶易掉等问题,提高良品率。手机组装粘接前、中框粘接前、盖板粘接前通过大气等离子处理,可有效增强表面附着力,提高粘接质量。摄像头模组需在DB前、WB前、HM前、封装前进行真空等离子清洗,活化材料表面,提高亲水性和黏附性能,防止溢胶,增强封装贴合度。
等离子体在处理固体物质的时候,会与固体物质发生两种发应:物理反应、化学反应物理反应:活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面被带走。化学反应:大气中的氧气等离子的活性基因可以和处理物表面的有机物反应产生二氧化碳和水,达到深度清洁作用,同时在表面产生更多羧基等亲水基团,提高材料亲水性。什么是等离子体?等离子体(plasma)是由自由电子和带电离子为主要成分的物资状态,被称为物资的第四态。如何产生等离子体?通常我们接触到得到等离子的方式有三种:高温(燃烧)、高压(闪电)或者高频、高压源(等离子电源)下产生。通过等离子表面活化,可以提高玻璃基板表面亲水性,有效优化表面附着力,提升电池的稳定性和品质。
等离子体技术的特点是不分材料的几何形状和类型,均可进行PlaSMA等离子处理,对金属、半导体、氧化物、PET纤维、PDMS、PTFE、ITO/FTO导电玻璃、硅片和大多数高分子材料,如液晶高分子、聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、聚四氟乙烯和石墨烯粉末、金属氧化物粉末、聚乙二醇粉末、碳黑粉末、碳纳米管粉末、硼粉、铝粉、荧光粉等都能很好地处理,可实现整体和局部以及复杂结构的清洗、活化、改性、蚀刻。选择适合的等离子清洗机能保证材料表面不被损伤,也能提升材料物理和化学性能。等离子清洗机还可以改善密封性和隔音效果,降低后序加工难度和成本,为汽车制造业带来明显的效益。浙江在线式等离子清洗机生产企业
等离子体就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。浙江在线式等离子清洗机生产企业
等离子表面处理技术在光伏电池制程中也有着广泛的应用,可用于玻璃基板表面活化,阳极表面改性,涂保护膜前处理等,在提高光伏元件表面亲水性、附着力等方面具有明显的优势。大气等离子清洗机SPA-2800采用稳定性高的移相全桥软开关电路,拥有稳定的模拟通信数据传输方式,等离子体均匀,能够实现高效清洗,效果稳定且时效性长,能够满足光伏边框的表面处理需求。等离子处理完成后,可使用接触角测量仪验证其处理后的效果,通过对比前后的接触角数据、极性分量、色散分量、表面能等数值有效分析和判断等离子处理的有效性。浙江在线式等离子清洗机生产企业